SEMulator3D®
半導体の製造工程を 3D でシミュレーションする Lam のソフトウェア。実ウェーハの代わりに仮想で工程を検証する。
SEMulator3Dとは
SEMulator3D は、Lam Research の半導体プロセスの 3D シミュレーションソフトウェアです。実際のシリコンでは数週間から数か月かかる検証を、シミュレーションで数時間から数日に短縮します。
装置、技術者・工場の人員、ウェーハ、マスク、薬液、消耗品、設備の必要量を減らせるため、コストも下げられます。
工程集積の検証や大きな方針決定などのパスファインディング、3D の故障チェックや欠陥の致命率、抵抗・容量・リーク・デバイス特性の解析、設計と工程の最適化やプロセスウィンドウ、ウェーハ面内の均一性などの歩留まり立ち上げに使われます。
主な特長
- •工程の 3D シミュレーション
- •検証期間を大幅に短縮
- •欠陥・電気特性の解析
主な仕様
| 提供形態 | プロセスモデリングソフトウェア |
|---|---|
| 主な用途 | パスファインディング・欠陥解析・歩留まり立ち上げ |
| 効果 | 検証期間を週・月単位から時間・日単位へ短縮 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | PDF SolutionsExensio® Analytics Platform | SynopsysYield Explorer/SiliconDash | Lam ResearchSEMulator3D® | Lam ResearchFabtex™ Yield Optimizer |
|---|---|---|---|---|
| 提供形態 | エンタープライズ分析プラットフォーム(モジュール構成) | Silicon Lifecycle Management(SLM)製品群 | プロセスモデリングソフトウェア | 歩留まり最適化ソフトウェア |
| 主要用途 | IDM・ファウンドリ・ファブレスの歩留まり立ち上げ | 初期シリコンのデバッグ・量産歩留まり改善 | — | 根本原因の特定・歩留まり改善 |
| 対象データ | FDC・特性評価・テスト・組立データ | 設計フロー・ファブ・ウェーハ/チップテスト・モニタ/センサー | — | — |
1機種だけが掲載している項目(3件)
| 主な用途 | — | — | パスファインディング・欠陥解析・歩留まり立ち上げ | — |
|---|---|---|---|---|
| 効果 | — | — | 検証期間を週・月単位から時間・日単位へ短縮 | — |
| 技術 | — | — | — | 仮想シリコンツイン+物理モデル+機械学習 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •プロセス集積の検証
- •欠陥解析
- •歩留まり立ち上げ
掲載カテゴリ
SEMulator3Dは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Lam Research
エッチング装置の世界的リーダー。約39%の市場シェアを持ち、原子層エッチング(ALE)技術で先端3Dチップアーキテクチャを支える。
品質・歩留まり管理システム(YMS)のほかの製品
Lam Researchのほかの製品
Kiyo®(コンダクタエッチング)(ドライエッチング装置)Flex®(誘電体エッチング)(酸化膜エッチャー)Versys® Metal(金属エッチャー)Sense.i®(材料別エッチャー)Selective Etch(Argos®/Prevos®/Selis®)(ドライ洗浄装置)Striker®(枚葉ALD)(ALD装置)VECTOR®(PECVD)(CVD装置)SABRE® 3D(めっき装置(電解銅めっき))Syndion®(深堀りシリコンエッチング)(CMOSイメージセンサー製造装置)SABRE®(銅 ECD)(めっき装置(電解銅めっき))Coronus®(ベベルエッチング・成膜)(ドライエッチング装置)EOS®(ウェット洗浄)(シングルウェハ洗浄装置)DV-Prime®/Da Vinci®(シングルウェハ洗浄装置)SP Series(SP203L/SP223/SP323)(ウェットエッチング装置)Akara®(ドライエッチング装置)Triton(枚葉めっき・ウェット処理)(ウェハレベルパッケージング)Kallisto(パネル ECD)(ウェハレベルパッケージング)Phoenix(パネル処理)(ウェハレベルパッケージング)ALTUS®(W/Mo の CVD・ALD)(CVD装置)SPEED®(HDP-CVD)(CVD装置)GAMMA®(ストリップ)(アッシング装置(レジスト灰化))SOLA®(UV 熱処理)(アニール炉)Vantex®(誘電体エッチング)(酸化膜エッチャー)Metior®(質量計測)(膜厚計測装置)Prestis™(AlScN PVD)(PVD装置)DSiE™(深堀りシリコンエッチング)(MEMS)Fabtex™ Yield Optimizer(品質・歩留まり管理システム(YMS))
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07