Versys Metalとは
Versys Metal は、Lam Research のメタルエッチング用プロダクトファミリーです。メタルエッチングは、集積回路の素子どうしをつなぐ配線や電気的接続を形成する工程で、先端デバイスの配線を形成するための複雑なメタルハードマスク（MHM）のパターニングにも使われます。
BEOL のメタルエッチでは、繰り返し性のあるプロファイルと CD の制御、そして大量生産での低コストが課題です。メタルハードマスクは Low-k 膜に対する選択比を高めて BEOL の集積を助ける一方、トレンチ寸法やライン底部の粗さの制御という新たな課題も生みます。
Versys Metal は対称なチャンバー設計と独立したプロセス調整機能で CD・プロファイルの均一性を高め、独自のチャンバークリーニング技術で高い稼働率と歩留まり、再現性を実現します。アップグレードにより複数のデバイス世代で使えます。
主な特長
- •対称チャンバーと独立プロセス調整による CD・プロファイル均一性
- •独自のチャンバークリーニングで高稼働率
- •複数世代で使えるアップグレード可能な構成
主な仕様
| 方式 | 反応性イオンエッチング（RIE） |
|---|---|
| 主な技術 | 対称チャンバー・独立プロセス調整・独自のチャンバークリーニング |
| シリーズ構成 | Versys Metal／Metal45／Metal L・M・N |
| 主要用途 | TiN メタルハードマスク・高密度 Al 配線・Al パッド |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン（TEL）Tactras™ | Lam ResearchVersys® Metal | Applied MaterialsProducer® Selectra® Mo Etch |
|---|---|---|---|
| 方式 | 反応性イオンエッチング（RIE） | 反応性イオンエッチング（RIE） | 選択ドライエッチング（Producer プラットフォーム） |
| 主要用途 | コンダクタ・絶縁膜エッチング | TiN メタルハードマスク・高密度 Al 配線・Al パッド | 3D NAND の Mo ワード線分離 |
1機種だけが掲載している項目（5件）
| 対応ウェハ径 | 300 mm | — | — |
|---|---|---|---|
| チャンバー構成 | 最大 6 チャンバー（水平対向設計） | — | — |
| 主な技術 | — | 対称チャンバー・独立プロセス調整・独自のチャンバークリーニング | — |
| シリーズ構成 | — | Versys Metal／Metal45／Metal L・M・N | — |
| 対象 | — | — | モリブデン（Mo） |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •TiN メタルハードマスクのエッチング
- •高密度アルミ配線・アルミパッド
掲載カテゴリ
Versys Metalは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Lam Research
エッチング装置の世界的リーダー。約39%の市場シェアを持ち、原子層エッチング（ALE）技術で先端3Dチップアーキテクチャを支える。
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06