VECTOR®（PECVD）

Lam Research の PECVD 製品群。クアッドステーションモジュール（QSM）構成で、高品質な絶縁膜を高い生産性で成膜する。

VECTORとは

VECTOR は、Lam Research の PECVD（プラズマ CVD）製品群です。最新のトランジスタや 3D 構造に使われる、作るのが最も難しい部類の絶縁層の成膜を担います。用途によっては複雑な構造にぴったり沿う膜が、別の用途では後の層で欠陥が増幅されないよう極めて平滑で欠陥のない膜が求められます。

優れた膜質とウェーハ面内・ウェーハ間の均一性、業界トップクラスの生産性と低い所有コストを特長としています。成膜とは独立してウェーハを昇温させる独自技術で、膜質を高めつつ処理時間を短縮します。クアッドステーションモジュール（QSM）構成で、幅広い用途に対応できるプロセスの柔軟性も得ています。

製品には VECTOR、VECTOR TEOS、VECTOR AHM、VECTOR MD、VECTOR Strata、VECTOR DT、VECTOR TEOS 3D があります。一部の機種は再生品の Reliant Systems としても提供されています。

主な特長

•クアッドステーションモジュール（QSM）による生産性と柔軟性
•成膜と独立したウェーハ昇温で膜質向上・処理時間短縮
•優れた面内・ウェーハ間均一性
•用途別のプラットフォーム（省スペース・高スループット・前後処理対応）

主な仕様

方式	PECVD（クアッドステーションモジュール）
対象膜	ハードマスク・反射防止膜・パッシベーション・3D NAND 積層膜
シリーズ構成	VECTOR／TEOS／AHM／MD／Strata／DT／TEOS 3D
主要用途	層間絶縁膜・ハードマスク・ウェーハ応力管理膜

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	Applied MaterialsProducer® XP Precision® CVD	東京エレクトロン（TEL）Triase+™ W（枚葉式W-CVD）	Lam ResearchVECTOR®（PECVD）	Kokusai Electric（国際電気）QUIXACE®-II（ラージバッチ成膜装置）	ULVAC（アルバック）CME-200E（PE-CVD）
方式	CVD（Producer プラットフォーム・Twin Chamber）	枚葉式 CVD（SFD 核付け層＋通常膜、ランプ加熱）	PECVD（クアッドステーションモジュール）	ラージバッチ縦型炉	PE-CVD（27.12 MHz 高密度プラズマ、トレイ搬送）
対象膜	3D NAND 積層膜・Saphira APF などのハードマスク	W（タングステン）	ハードマスク・反射防止膜・パッシベーション・3D NAND 積層膜	—	SiO₂・SiNx・SiON・a-Si・TEOS-SiO₂
主要用途	3D NAND の交互積層・DRAM の高アスペクト比加工用膜	コンタクトプラグ・ビアフィル	層間絶縁膜・ハードマスク・ウェーハ応力管理膜	—	パワーデバイス・LED・LD・MEMS
対応ウェハ径	300 mm	300 mm	—	300 mm	—
シリーズ構成	—	Triase+ EX-II TiN／Ti/TiN／W／SPAi	VECTOR／TEOS／AHM／MD／Strata／DT／TEOS 3D	—	—

1機種だけが掲載している項目（3件）

処理	—	—	—	CVD 膜・酸化膜形成、酸化・拡散・アニール	—
特徴	—	—	—	最大 1.25 倍のロット処理（同社比）・深溝への均一成膜	—
対応基板	—	—	—	—	200 mm 角（CME-400E は 300×400 mm、CME-500E は 500 mm 角）