ウェットベンチとは

Wet Bench

最終更新:2026-10-03・バッチ洗浄装置・ウェット洗浄装置|用語集のExcel・PDF版をダウンロード

ウェットベンチとは?

ウェットベンチとは、薬液槽と純水リンス槽を一列に並べ、25〜50枚のウェハをまとめて順番に浸して洗浄・エッチングするバッチ式の洗浄装置です。SPM・SC1・DHF・SC2などの槽とクイックダンプリンス、IPA乾燥で構成されます。1枚あたりのコストが低く、枚葉式が主流の先端品でも熱リン酸エッチングなど長時間処理で使われます。

定義・解説

ウェットベンチとは、薬液や純水を満たした複数の槽(バス)を横一列に並べ、ウェハをまとめて順番に浸して洗浄・エッチングする装置のことです。バッチ式洗浄装置の代表で、ウェットステーションとも呼ばれます。25枚や50枚のウェハを1ロットとして一度に処理できるため、処理能力が高いのが特長です。

典型的な構成では、SPM(硫酸過水)、SC1、希フッ酸(DHF)、SC2などの薬液槽と、薬液を洗い流す純水のリンス槽が交互に並び、最後に乾燥部があります。ウェハは搬送ロボットで槽から槽へ運ばれ、決められた時間ずつ浸されます。リンス槽では、純水を一気に排出して入れ替えるクイックダンプリンス(QDR)や、槽の下から純水をあふれさせるオーバーフローリンスで薬液を洗い流します。乾燥には、IPA(イソプロピルアルコール)の蒸気を使うマランゴニ乾燥や、ウェハを回転させるスピン乾燥が使われます。以前はカセットごと浸していましたが、薬液の持ち込みを減らすため、ウェハを直接つかんで運ぶカセットレス方式が主流です。

ウェットベンチは処理能力が高く薬液を繰り返し使えるため、1枚あたりのコストが低い一方、槽の中で剥がれた汚れが他のウェハに移る相互汚染や、ウェハの面内・ロット内のばらつきが課題です。微細化が進んだ先端品では、1枚ずつ薬液を吹き付ける枚葉式洗浄装置への置き換えが進みましたが、熱リン酸による窒化膜のエッチングや、レジスト除去、ウェハの受け入れ洗浄など、処理時間が長い工程では今もウェットベンチが広く使われています。主なメーカーには、SCREENセミコンダクターソリューションズや東京エレクトロンなどがあります。

よくある質問(FAQ)

ウェットベンチと枚葉式洗浄装置の違いは何ですか?▾
ウェットベンチは25〜50枚のウェハをまとめて薬液槽に浸すバッチ式で、処理能力が高く1枚あたりのコストが低いのが特長です。枚葉式は1枚ずつ回転させながら薬液を吹き付ける方式で、相互汚染がなく面内の均一性に優れるため、先端品の多くの洗浄工程で使われます。
クイックダンプリンス(QDR)とは何ですか?▾
ウェハを浸したリンス槽の純水を底から一気に排出し、すぐに新しい純水を満たす動作を繰り返して、表面に残った薬液を短時間で洗い流す方法です。純水を流し続けるオーバーフローリンスより薬液の置換が速く、ウェットベンチで広く使われています。

設備の製造メーカー

SCREENホールディングス日本

半導体洗浄装置の世界的リーダー。表面処理、ダイレクト描画、画像処理の3大コア技術で、ナノレベルの高精度加工を実…

東京エレクトロン(TEL)日本

世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技…

アクリオンシステムズ(Akrion Systems)米国

ウェハ湿式洗浄装置の専業メーカー。バッチ式・枚葉式洗浄装置を中心に、半導体前工程の洗浄ニーズに対応する。

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