CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z

10nm世代以降を対象とした300mm向けコータ／デベロッパ。EUVを含む先端リソグラフィ工程で長く量産採用されてきた機種。

CLEAN TRACK LITHIUS Pro Zとは

CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z は、東京エレクトロン（TEL）の 300mm 対応コータ／デベロッパです。レジストの塗布、露光後の現像、各種ベークを行う装置で、露光装置とインラインで接続して使います。

10nm ノード以細の最新リソグラフィ工程に対応し、EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC（スピンオンカーボン）の各プロセスを扱えます。スループットはインラインで 300wph です。発塵を抑えた搬送方式と、ウェーハのベベルに触れない構造で欠陥を抑えています。

LITHIUS シリーズは、高いシェアを持った CLEAN TRACK ACT シリーズの技術を継いだ製品群です。シリーズには High-NA を含む EUV に対応した LITHIUS Pro DICE（インライン 440wph）や、パッケージング向けの LITHIUS Pro AP もあります。

主な特長

•10nm ノード以細の最新リソグラフィに対応
•EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC の各プロセス
•インライン 300wph のスループット
•低発塵搬送・ウェーハベベル非接触

主な仕様

対応ウェハ径	300 mm
対応ノード	10 nm 世代以降
スループット	インライン 300 wph
対応プロセス	EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC
関連機種	LITHIUS Pro AP（300 mm／200 mm対応）（派生機種）
主要用途	レジスト塗布・現像・各種ベーク

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE	東京エレクトロン（TEL）CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z	SCREENホールディングスDT-3000（SOKUDO DUO）
対応ウェハ径	300 mm	300 mm	300 mm
主要用途	先端リソグラフィのレジスト塗布・現像	レジスト塗布・現像・各種ベーク	—
スループット	—	インライン 300 wph	450 枚／時以上
対応プロセス	—	EUV・液浸・ArF・KrF・i線・SOC	液浸リソグラフィ・電子ビーム・DSA

1機種だけが掲載している項目（7件）

位置づけ	LITHIUS Pro Z の後継機	—	—
特徴	High-NA EUVプロセス向け欠陥制御技術	—	—
販売開始	2025年12月	—	—
対応ノード	—	10 nm 世代以降	—
関連機種	—	LITHIUS Pro AP（300 mm／200 mm対応）（派生機種）	—
構成	—	—	デュアルトラック（2プロセスライン並列）
運用	—	—	片ラインのメンテナンス中も生産継続が可能