ラインアンドスペース（L/S）とは、同じ幅の線（ライン）とすき間（スペース）が一定の間隔で繰り返し並んだパターンのことです。リソグラフィの解像力を表す最も基本的なパターンで、「L/S＝20/20nm」のように線の幅とすき間の幅で表します。線1本とすき間1つを合わせた長さをピッチ、その半分をハーフピッチと呼びます。
ラインアンドスペースは、露光装置やレジストがどこまで細かいパターンを作れるかを比べる共通の物差しとして使われます。レイリーの式で表される解像度は、このハーフピッチを指すのが一般的です。また、メモリの配線やワード線のように、実際のデバイスにも同じ線が規則的に並んだパターンが多く、ダブルパターニング（SADP）などの手法で、露光1回の限界より細かいラインアンドスペースが作られています。
後工程やパッケージ基板の分野でも、配線の細かさを表すのにラインアンドスペースが使われます。たとえば、ファンアウトパッケージの再配線層（RDL）では2/2μm以下、パッケージ基板では10/10μm前後、一般的なプリント基板では数十μmが目安です。チップレットのように多くの信号をつなぐ用途では、L/Sの微細化が性能を左右します。
