Cellciaとは
Cellcia は、東京エレクトロン(TEL)の 300mm ウェーハ対応の次世代ウェーハ一括テストプラットフォームです。多段のマルチセル構造を持ち、各セルが完全に独立して同時にウェーハをテストするため、ロットを高速に処理できます。
メモリのウェーハテストでは、コスト削減のために同時多数測定が積極的に取り入れられ、300mm ウェーハを一括コンタクトでテストする技術も確立されています。Cellcia はロットを複数のセルに分けて処理時間を短くし、多段積みで設置面積を大きく減らして、単位面積あたりのテスト効率を飛躍的に高めました。
従来のプローバの技術に加え、新しいステージ、プローブカード、コンタクター、テスターの技術と、前工程装置で培った技術を導入しています。セル数は 12 または 25 で、メモリやウェーハレベルバーンインに使われます。
主な特長
- •多段マルチセル構造
- •各セルが独立して同時テスト
- •設置面積を大幅削減
- •12/25 セル
主な仕様
| 対応ウェハ径 | 300 mm |
|---|---|
| セル数 | 12 または 25 |
| 主要用途 | メモリ・ウェーハレベルバーンイン |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 東京エレクトロン(TEL)Precio™ XL(ウェーハプローバ) | 東京エレクトロン(TEL)Prexa™ | 東京エレクトロン(TEL)Prexa™ MS | 東京エレクトロン(TEL)Cellcia™ | 東京エレクトロン(TEL)WDF™ 12DP+ | 東京エレクトロン(TEL)Precio octo™ | 東京精密(Accretech)UF3000EX-e(ウェーハプローバ) | アドバンテストHA1200(ダイレベルプローバ) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 対応ウェハ径 | 200/300 mm | 300 mm(200 mm はオプション) | 300 mm(200 mm はオプション) | 300 mm | — | 150/200 mm | 200 ~ 300 mm(特殊ウェーハ含む) | — |
| XY 精度 | — | ±1.8µm(200mm オプション時 ±1.5µm) | ±0.8µm | — | ±1.8µm | ±2.0µm | — | — |
| 方式 | 全自動ウェーハプローバ(リニアモーター) | — | — | — | — | — | 全自動ウェーハプローバ | 個片ダイへの高精度自動プロービング |
| 主な機能 | TELPADS-I(高速針痕検査)・Auto Leveling・CoSMOz | — | — | — | — | — | OTS(光学式ターゲットスコープ)・15 インチタッチパネル | — |
| プロービング荷重 | — | 300 kg(オプション 450 kg) | 600 kg(オプション 1,000 kg) | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | — | — | — | メモリ・ウェーハレベルバーンイン | — | — | ウェーハテスト(プローブテスト) | — |
| 対象 | — | — | — | — | 200/300mm ウェーハ・300mm ダイシングフレーム | — | — | チップレットを使うハイエンド SoC |
1機種だけが掲載している項目(5件)
| 精度 | XY ±1.8 µm・Z ±5.0 µm | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| セル数 | — | — | — | 12 または 25 | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | N-Shot アライメント(ダイシング前後) | — | — | — |
| オプション | — | — | — | — | — | 超高速針痕自動検査 TELPADS-I | — | — |
| 温度制御 | — | — | — | — | — | — | — | テスタ連動の ATC(Active Thermal Control) |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •メモリのウェーハ一括テスト
- •ウェーハレベルバーンイン
掲載カテゴリ
Cellciaは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
東京エレクトロン(TEL)
世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。
ウェハプローバーのほかの製品
東京エレクトロン(TEL)のほかの製品
TELINDY PLUS(拡散炉)CLEAN TRACK LITHIUS Pro Z(コータ/デベロッパ)Tactras™(ドライエッチング装置)EXPEDIUS™-i(バッチ式洗浄装置)(ウェットエッチング装置)Episode™ UL(材料別エッチャー)CELLESTA™-i(枚葉洗浄装置)(シングルウェハ洗浄装置)ZETA™+(バッチスプレー式洗浄装置)(バッチ洗浄装置)Certas LEAGA™(ガスケミカルエッチング)(ドライ洗浄装置)ANTARES™(エアロゾル洗浄装置)(ドライ洗浄装置)TELINDY PLUS™ IRad™(バッチ式ALD)(ALD装置)NT333™(セミバッチ式ALD)(ALD装置)Triase+™ W(枚葉式W-CVD)(CVD装置)LEXIA™-EX(PVD)(PVD装置)CLEAN TRACK LITHIUS Pro DICE(コータ/デベロッパ)Precio™ XL(ウェーハプローバ)(ウェハプローバー)Synapse™ Si(ウェーハボンダー)(CMOSイメージセンサー製造装置)CELLESTA™ Pro SPM(レジスト剥離装置(ウェット))CELLESTA™ SCD(ウェハ乾燥装置)NS300Z(ウェハスクラバ)EVAROS™(拡散炉)TELFORMULA™(拡散炉)ALPHA-8SE™ i(拡散炉)Triase+™ EX-II™ TiN(CVD装置)Triase+™ Ti/TiN(CVD装置)Triase+™ SPAi(RTP(急速熱処理)装置)Episode™ 1(CVD装置)Episode™ 2 DMR(CVD装置)EXIM™(PVD装置)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ AP(コータ/デベロッパ)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™ V(コータ/デベロッパ)CLEAN TRACK™ LITHIUS Pro™(コータ/デベロッパ)UNITY™ Me+(SiCパワー半導体製造装置)CELLESTA™-i MD(シングルウェハ洗浄装置)CELLESTA™ MS2(ウェハスクラバ)Prexa™(ウェハプローバー)Prexa™ MS(ウェハプローバー)Prexa™ SDP(最終テスト装置)WDF™ 12DP+(ウェハプローバー)Precio octo™(ウェハプローバー)Synapse™ V/Synapse™ Z Plus(TSV形成装置)Ulucus™ L(ハイブリッドボンディング装置)Ulucus™ LX(ハイブリッドボンディング装置)Ulucus™ G(バックグラインダー)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07