前工程（ウェハプロセス）
OPCエンジニア（計算リソグラフィ）
最終更新：2026-09-28
この職種は何をするのか
OPC（光近接効果補正）エンジニアは、設計どおりのパターンをウェハ上に焼けるように、マスクのパターンを計算で変形させる職種です。露光波長より細いパターンは光の回折で角が丸まり線が細るため、あらかじめマスク側を補正しておく必要があります。リソグラフィのシミュレーションモデルを作り、全チップ分のパターンに補正をかけるので、実質的にはソフトウェアとデータの仕事です。
仕事内容
OPCモデルの構築
テストパターンを実際に露光して測定したCDデータから、光学像とレジストの反応を再現するモデルを作ります。モデルの精度がすべての補正の精度を決めます。
補正レシピの開発
パターンの端を動かす量、補助パターン（SRAF）の置き方、MEEFの大きい箇所の扱いを決め、数十億図形のチップ全体に計算をかけるレシピを作ります。
ホットスポット検証
補正後のパターンでもプロセスウィンドウが狭い箇所（ホットスポット）を検出し、補正の修正や設計側へのルール変更の要望につなげます。
光源・マスク最適化とDTCO
光源形状とマスクを同時に最適化するSMOや、設計ルールとプロセスを同時に詰めるDTCOでは、設計部門・リソグラフィ部門の間に立って仕様を決めます。
担当する工程・装置
必要になる知識・用語
OPC（光近接効果補正）Optical Proximity Correctionソースマスク最適化Source-Mask Optimization (SMO)マスク誤差増幅係数Mask Error Enhancement Factor (MEEF)エッジプレースメントエラーEdge Placement Error (EPE)レチクル（フォトマスク）Reticle / PhotomaskフォトマスクPhotomask / Reticle位相シフトマスク（PSM）Phase Shift Maskレーリーの式（解像度・焦点深度）Rayleigh EquationマルチパターニングMulti-PatterningDTCO（設計・技術協調最適化）Design-Technology Co-Optimization (DTCO)GDSII（マスクデータ形式）GDSII Stream Format
主な企業
関連する技術比較
よくある質問
OPCエンジニアはプログラミングが必要ですか？
必要です。EDAツールのスクリプト（Tcl・Pythonなど）でレシピを書き、大量の計算を分散処理で回すのが日常業務です。光学とソフトウェアの両方がわかる人材は少なく、需要の高い職種です。
どんな会社で働けますか？
ファウンドリ・メモリメーカーのリソグラフィ部門、マスクメーカー、EDAベンダー（OPCソフトの開発・サポート）、露光装置メーカーの計算リソグラフィ部門が主な就職先です。
EUVになってもOPCは必要ですか？
必要です。EUVでもパターンの歪みは生じ、さらにマスクの立体構造による影響（マスク3D効果）や確率的欠陥への配慮が加わるため、補正はむしろ複雑になっています。