装置・材料メーカー

プラズマ技術エンジニア

最終更新:2026-09-28

この職種は何をするのか

プラズマ技術エンジニアは、ドライエッチング・プラズマCVD・アッシングなどに使うプラズマを、装置の側から設計する職種です。ICPやCCPといったプラズマの生成方式、RF電源の周波数とパワー、チャンバーの形状、ガスの流れを組み合わせて、ウェハ全面で均一なイオンとラジカルを作ります。デバイスメーカーのエッチングエンジニアが「条件」で形状を作るのに対し、プラズマ技術エンジニアは「装置そのもの」で性能を作ります。

仕事内容

プラズマ源とチャンバーの設計

アンテナや電極の形状、RF周波数、磁場の有無を決め、狙いのプラズマ密度とイオンエネルギーを得られる構造を作ります。

プラズマ計測とシミュレーション

発光分光やラングミュアプローブでプラズマの状態を測り、流体・電磁界シミュレーションと突き合わせて設計の精度を上げます。

面内均一性の作り込み

ウェハの中心と端でエッチレートが違う問題を、ガスの導入方法、フォーカスリング、電極の温度分布などで解消します。300mm全面での均一性は装置の商品力そのものです。

新しい制御方式の開発

RFのパルス化、複数周波数の重畳、原子層エッチング向けの制御など、次の世代の加工に必要なプラズマの制御方式を開発します。

担当する工程・装置

ドライエッチング装置半導体製造装置 / 前工程装置 / エッチング装置PECVD(プラズマCVD)半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置アッシング装置(レジスト灰化)半導体製造装置 / 前工程装置 / エッチング装置RF電源・電源システム半導体製造装置 / 装置部品・サブシステムプロセスモニター(EPD/OES)半導体製造装置 / 装置部品・サブシステム

必要になる知識・用語

プラズマ(半導体製造)PlasmaICP(誘導結合プラズマ)ICP (Inductively Coupled Plasma)CCP(容量結合プラズマ)CCP (Capacitively Coupled Plasma)ラジカル(フリーラジカル)Radical (Free Radical)RF電源(高周波電源)RF Generatorインピーダンス整合器(マッチングボックス)Impedance Matching Networkリモートプラズマ源(RPS)Remote Plasma Source (RPS)シャワーヘッドShower Head / Gas Distribution Plateフォーカスリング(エッジリング)Focus Ring / Edge RingプラズマエッチングPlasma Etching

主な企業

東京エレクトロン(TEL)JPLam ResearchUSApplied MaterialsUS日立ハイテクJPサムコ(SAMCO)JPAdvanced Energy IndustriesUSダイヘンJP

関連する技術比較

ICPとCCPの違い原子層エッチング(ALE)とプラズマエッチング(RIE)の違い

よくある質問

プラズマの研究経験は必要ですか?

あると有利ですが必須ではありません。プラズマ物理・電磁気学・気体放電の基礎があれば、装置開発の中で経験を積めます。大学でプラズマ・核融合・放電を研究した人が多く就く職種です。

エッチングエンジニアとの違いは?

エッチングエンジニアは既存の装置で条件を決め、ウェハの形状に責任を持ちます。プラズマ技術エンジニアは装置のハードウェアと設計に責任を持ち、どんな条件でも使える装置を作る側です。

日本でこの仕事はありますか?

東京エレクトロンや日立ハイテクなど、エッチング・成膜装置を開発する日本企業にあります。RF電源のダイヘンなどコンポーネントメーカーでもプラズマの知識を持つ技術者が求められています。

関連する職種

エッチングエンジニア前工程(ウェハプロセス)電気・制御設計装置・材料メーカー真空技術装置・材料メーカー装置の機械設計装置・材料メーカー