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CONFERENCE

ICICDT(IC設計と技術国際会議)

IEEE・Fraunhofer IPMS ほかが主催する、集積回路の設計と製造技術を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
International Conference on IC Design and Technology
主催
IEEE・Fraunhofer IPMS ほか
次回の会期
未発表(例年6月頃)
開催地
各国持ち回り
例年の開催
6月頃・各国持ち回り
分野
デバイス・プロセス/回路・設計(EDA)
格付け
専門の国際会議集積回路の設計と製造技術という特定のテーマに絞って開かれている国際会議のため、専門の国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
www.ipms.fraunhofer.de(2026/10/24 確認)

02ICICDTはどんな学会か


ICICDTは、IEEE・Fraunhofer IPMS ほかが主催する、集積回路の設計と製造技術を扱う国際会議です。2026年は6月 ドレスデン(Fraunhofer IPMS)。例年6月ごろに開かれます。

デバイス・プロセスと回路設計をつなぐ技術、メモリ、センサの研究が発表される会議です。

03注目の技術


ICICDTでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • EUV(極紫外線)

    EUV(Extreme Ultraviolet:極端紫外線)とは、波長13.5nmの極短波長光を指し、半導体リソグラフィ(露光)分野において7nm以下の超微細回路パターンを形成するための光源技術として不可欠な存在となっています。

  • プラズマエッチング

    プラズマエッチング(Plasma Etching)は、真空チャンバー内でプラズマを生成し、そのプラズマ中の活性種(ラジカル・イオン)によってウェハ表面の材料を除去するエッチング手法の総称です。

  • ALD

    ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)は、自己制限的な表面反応を利用して薄膜を少しずつ積み上げる成膜技術です。

  • CMP

    CMP(Chemical Mechanical Polishing/化学機械研磨)は、研磨剤(スラリー)と研磨パッドを用いて、ウェハ表面を化学的作用と機械的作用の組み合わせでナノメートルレベルまで平坦化するプロセスです。

  • 歩留まり(イールド)

    歩留まり(Yield)は、半導体の製造プロセスにおいて、ウェハ1枚当たりの全ダイ(チップ)数に対する良品ダイ数の割合(百分率)を表す指標です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。