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CONFERENCE

ICSICT 2026(固体・集積回路技術国際会議)

IEEE ほかが主催する、固体デバイスと集積回路の技術を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
IEEE International Conference on Solid-State and Integrated Circuit Technology
主催
IEEE ほか
次回の会期
2026年10月27日〜10月30日(金)(開幕まであと0日)
開催地
杭州(中国)
例年の開催
10月頃・中国
分野
デバイス・プロセス/回路・設計(EDA)
格付け
主要国際会議IEEE ほかが主催し、固体デバイスと集積回路の技術の分野で継続して開かれている国際会議のため、主要国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
www.icsict.org(2026/10/24 確認)
会期をカレンダーに追加(.ics)

02ICSICTはどんな学会か


ICSICTは、IEEE ほかが主催する、固体デバイスと集積回路の技術を扱う国際会議です。2026年は10月27日から10月30日まで、杭州(中国)で開かれます。

デバイス・プロセス・回路・パッケージなど集積回路の技術全般の研究が発表される、中国で開かれる会議です。

03注目の技術


ICSICTでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • EUV(極紫外線)

    EUV(Extreme Ultraviolet:極端紫外線)とは、波長13.5nmの極短波長光を指し、半導体リソグラフィ(露光)分野において7nm以下の超微細回路パターンを形成するための光源技術として不可欠な存在となっています。

  • プラズマエッチング

    プラズマエッチング(Plasma Etching)は、真空チャンバー内でプラズマを生成し、そのプラズマ中の活性種(ラジカル・イオン)によってウェハ表面の材料を除去するエッチング手法の総称です。

  • ALD

    ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)は、自己制限的な表面反応を利用して薄膜を少しずつ積み上げる成膜技術です。

  • CMP

    CMP(Chemical Mechanical Polishing/化学機械研磨)は、研磨剤(スラリー)と研磨パッドを用いて、ウェハ表面を化学的作用と機械的作用の組み合わせでナノメートルレベルまで平坦化するプロセスです。

  • 歩留まり(イールド)

    歩留まり(Yield)は、半導体の製造プロセスにおいて、ウェハ1枚当たりの全ダイ(チップ)数に対する良品ダイ数の割合(百分率)を表す指標です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。