レジストレーションとは、半導体のリソグラフィで、描かれたパターンが本来あるべき位置（設計上の格子）からどれだけずれずに置かれているかを表す位置精度のことです。とくにフォトマスクの上のパターンの位置精度（マスクのレジストレーション、イメージプレースメント）を指すことが多く、nm単位で管理されます。
よく似た言葉にオーバーレイ（重ね合わせ）があります。オーバーレイは、ウェハの上で前の層と今の層のパターンがどれだけずれているかという「層と層の相対的なずれ」です。これに対しレジストレーションは、1枚のマスクやウェハの上でパターンが絶対的な位置からどれだけずれているかを表します。マスクのレジストレーション誤差は、露光で4分の1に縮小されてウェハのオーバーレイ誤差の一部になります。
マスクのレジストレーション誤差の原因は、電子ビーム描画装置の位置決めの誤差、描画中の温度変化や帯電、マスクの膜応力によるゆがみ、マスクを支える方法によるたわみなどです。専用のレジストレーション計測装置で、マスク全体の多数の点の位置を測って管理します。EUVマスクは反射型で、マスクの平坦度や裏面の状態も位置のずれにつながるため、管理がより厳しくなっています。
