KLA/MEMS

SPTS Omega® Rapier™

ボッシュ法による高速の深堀りシリコンエッチング(DRIE)モジュール。KLA は 1,500 以上の DRIE モジュールの実績を持つ。

SPTS Omega Rapierとは

SPTS Omega の Rapier と DSi-v のプロセスモジュールは、KLA(SPTS)の高速シリコンエッチングのモジュールです。深堀りシリコンエッチング(DRIE)では、エッチング(SF₆)と保護膜(C₄F₈)の工程を繰り返すボッシュ法で、シリコンに異方性の溝や穴を掘ります。

KLA は 1,500 以上の DRIE プロセスモジュールの導入実績を持ち、MEMS などの深堀りシリコンエッチングで数十年の経験があります。

Rapier は、独立して制御する 1 次・2 次のデカップルドプラズマ領域と独立した 2 系統のガス導入を持つデュアルプラズマ源の設計です。ラジカルを高濃度で均一に分布させ、高いエッチング速度、ウェーハ全面の優れた均一性、CD・形状・傾きの制御を、最大 300mm のウェーハで実現します。

主な特長

  • •ボッシュ法の DRIE
  • •デュアルプラズマ源
  • •最大 300mm
  • •1,500 モジュール以上の実績

主な仕様

方式DRIE(ボッシュ法・デュアルプラズマ源)
対応ウェハ径最大 300 mm
実績DRIE プロセスモジュール 1,500 以上

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目東京エレクトロン(TEL)Tactras™Suss MicroTecMA8 Gen5(マスクアライナー)EV GroupEVG®510(ウェーハ接合装置)Lam ResearchDSiE™(深堀りシリコンエッチング)KLASPTS Omega® Rapier™KLAPrimaxx® Monarch 300KLAXactix® X4KLAMVD300®アドバンテストHA7200(温度・圧力ユニット)アドバンテストHA7300(Stimulus Test Cell)ULVAC(アルバック)NLD-570(ドライエッチング装置)ULVAC(アルバック)NLD-5700(ドライエッチング装置)
方式反応性イオンエッチング(RIE)——深堀りシリコンエッチング(ボッシュ法・定常法)DRIE(ボッシュ法・デュアルプラズマ源)気相 HF(VHF)エッチングXeF₂ 気相エッチング(パルス・連続)分子気相成膜(MVD)ダイレクト温度印加・小型チャンバ・専用圧力コントローラ—磁気中性線プラズマ(NLD)・低圧・低電子温度・高密度磁気中性線プラズマ(NLD)
主要用途高アスペクト比エッチングMEMS・LED・マイクロ光学・光センサーMEMS のキャップ接合・気密封止MEMS・パワーデバイスのトレンチ・WLP の TSV——MEMS デバイスのリリースMEMS の固着防止膜・腐食防止膜——光デバイス・マイクロレンズ・フォトニック結晶・μ-TAS—
対応ウェハ径300 mm最大 200 mm小片 ~ 200 mm—最大 300 mm200/300 mm——————
対象————————車載用などの圧力センサディーゼル排気系の差圧センサなど石英・ガラス・水晶・LN・LT 基板石英・ガラス・水晶・LN・LT 基板
特徴—SUSS レベリングシステム・クラスターへの組み込み可————特許のデュアル膨張室—————
構成———————MVD300・MVD300E(EFEM 付き全自動)———カセット室標準・エッチング/アッシング室を追加可能
1機種だけが掲載している項目(10件)
チャンバー構成最大 6 チャンバー(水平対向設計)———————————
露光方式—マスクアライナー(インプリント対応)——————————
接合方式——陽極・ガラスフリット・はんだ・共晶・TLP・直接接合—————————
最大荷重・温度——10/20/60 kN、最高 550°C—————————
ラインアップ———DSiE III・DSiE F Series・DSiE G Series————————
実績————DRIE プロセスモジュール 1,500 以上———————
処理—————1 バッチ最大 13 枚・最大 6 モジュール——————
連携————————EVA100・ハンドラとのセンサテストセル———
温度制御—————————8 個一括(低温用/高温用の温調プレート)——
圧力—————————2Port 圧力コントローラ・圧力印加ノズル——

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •MEMS の深堀りエッチング
  • •シリコンの溝・穴加工

掲載カテゴリ

SPTS Omega Rapierは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

KLA

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

KLA の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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