測試・可靠度用語一覽

涵蓋晶片的電氣測試、預燒、加速壽命試驗、故障分析與各種劣化機制。可靠度評估確認晶片在長期使用與嚴苛環境下仍能維持功能,與測試共同構成產品品質保證的最後一道關卡。

測試・可靠度的用語(37 個)

  • 電遷移
    電遷移是半導體晶片金屬導線中流過高密度電流時,金屬原子因電子動量傳遞而沿電流方向移動的現象,是積體電路主要的可靠度劣化模式之一。
  • 預燒(Burn-in)
    預燒是在半導體元件出貨前,將其置於高溫、高電壓的加速應力環境中,刻意使早期失效顯現並加以剔除的品質保證製程。
  • 探針卡
    探針卡是讓極細金屬探針(針)接觸晶圓上半導體晶片的電極焊墊,以檢測其電氣特性的介面治具。
  • 系統級測試(SLT)
    系統級測試(SLT)是在接近實際運作環境的條件下測試半導體晶片的手法,用以發現單純的晶圓測試或傳統ATE測試難以檢出、源自系統運作的不良。
  • 可測試性設計(DFT)
    可測試性設計(DFT)是在半導體晶片設計階段,預先內建可提高測試效率之電路與結構的設計手法總稱,是現代SoC設計不可或缺的技術。
  • NBTI(負偏壓溫度不穩定性)
    NBTI(負偏壓溫度不穩定性)是在高溫下對pMOSFET持續施加負閘極電壓時,臨界電壓隨時間上升、驅動能力逐漸下降的可靠度劣化現象。它是決定長期運作之先進CMOS壽命與時序裕度的重…
  • TDDB(時間相依介電崩潰)
    TDDB(時間相依介電崩潰)是對閘極絕緣膜持續施加電場時,經過一段時間後突然失去絕緣性而崩潰的可靠度劣化現象。它是決定電晶體壽命的代表性失效模式,在閘極絕緣膜持續薄化的先進節點中越…
  • 熱載子注入(HCI)
    熱載子注入(HCI)是在電晶體汲極附近的強電場中被加速的高能量載子,衝入閘極絕緣膜並產生界面態或陷阱,使元件特性隨時間劣化的可靠度現象。隨著微縮使通道變短、電場增強而越趨明顯,因此…
  • 應力遷移
    應力遷移(應力誘發空洞,SIV)是金屬導線中因機械應力而產生並成長空洞(void),導致導線或通孔斷線而失效的可靠度現象。與電流所造成的電遷移不同,其特點是即使不通電流也會發生,主…
  • 掃描測試
    掃描測試是可測試性設計(DFT)的代表性手法,將晶片內部的正反器串接成掃描鏈,使內部狀態可以從外部自由設定與觀測。能有效偵測原本無法從外部看見的內部邏輯故障,大幅改善量產測試的涵蓋…
  • BIST(內建自我測試)
    BIST(內建自我測試)是在晶片內部建置測試用電路,讓晶片自行產生測試圖樣並判定結果的可測試性設計(DFT)技術。它能降低對昂貴外部測試機(ATE)的依賴,而且不只在製造時,出貨後…
  • ATPG(自動測試圖樣產生)
    ATPG(自動測試圖樣產生)是以電路的網表(netlist)與故障模型為輸入,由EDA工具自動產生可偵測缺陷之測試圖樣的技術。它會搜尋能夠激發某個故障、並將其影響傳遞到觀測點的輸入…
  • 故障涵蓋率
    故障涵蓋率是表示在假設的故障模型中,能以測試圖樣偵測出的比例之指標。通常以「固定型故障涵蓋率99%」的形式表示,但這終究只是「假設模型範圍內」的數字,時序不良或漏電流不良須以其他模…
  • 固定型故障模型(Stuck-At)
    固定型故障模型是假設訊號線不論輸入為何,都固定在邏輯0或1的簡化故障假設。藉由將物理缺陷抽象化到邏輯層級,使故障清單可以列舉,讓ATPG即使面對大規模電路也能在實際可行的時間內求解…
  • 邊界掃描(JTAG)
    邊界掃描是在晶片各I/O腳位內側配置移位暫存器並串接成鏈,使其可從外部依序讀寫的測試結構,已標準化為IEEE 1149.1(JTAG)。主要用途是電路板組裝後的連接檢查,對端子隱藏…
  • HTOL(高溫操作壽命試驗)
    HTOL(高溫操作壽命試驗)是在約125℃、高於規定的電壓下連續運作約1,000小時,以推估一般使用時之壽命與FIT的加速壽命試驗。它與剔除早期失效的預燒(burn-in)目的不同…
  • 溫度循環試驗(TCT)
    溫度循環試驗是讓元件在-55℃~+125℃等範圍內反覆往返,以評估其對熱膨脹差異所造成之機械應力耐受性的試驗。其目標不是電性劣化,而是結構破壞,對象包括焊點的疲勞裂紋、打線剝離與內…
  • HAST(高加速應力試驗)
    HAST(高加速應力試驗)是在130℃、85%RH、約2大氣壓等高溫高濕且加壓的環境下,於短時間內評估濕度引起之劣化的試驗。加壓後即使超過100℃也能維持高濕度,將以往85℃/85…
  • ESD耐受性試驗(HBM、CDM)
    ESD耐受性試驗是評估元件對靜電放電耐受性的試驗。主要模式有模擬人體接觸情境的HBM(100pF/1.5kΩ,微秒級),以及元件本身帶電後放電的CDM(低阻抗、奈秒級、數A);在以…
  • 閂鎖效應(Latch-up)
    閂鎖效應是指CMOS結構中寄生形成的pnpn閘流體意外導通,使電源與接地之間持續流過大電流而無法停止的現象。多數情況下會導致導線熔斷或晶片燒毀等不可逆的破壞。基本對策是密集配置井區…
  • MSL(濕度敏感等級)
    MSL(濕度敏感等級)是依JEDEC規範,將表面黏著元件在組裝前可暴露於濕氣的時間(車間壽命,floor life)分為1~6級的指標。目的是防止「爆米花效應」:吸濕的封膠在260…
  • 浴缸曲線與 FIT
    浴缸曲線是將故障率沿時間軸繪製時所呈現的浴缸形曲線,由早期故障期、隨機故障期、磨耗故障期3個階段構成。早期故障在出貨前以預燒(burn-in)剔除,隨機故障率以 FIT(每10億元…
  • 加速模型(阿瑞尼斯定律)
    加速模型是將高溫、高電壓等嚴苛條件下短時間試驗的結果,換算為實際使用條件下壽命的數學式。基本的阿瑞尼斯定律以活化能 Ea 及試驗溫度、使用溫度求出加速因子。Ea 因劣化機制而異,若…
  • 故障分析(FA)
    故障分析(FA)是分析不良元件以找出物理原因的工作;測試回答的是「是否不良」,FA 回答的則是「為什麼不良」。由非破壞性逐步進入破壞性分析,以 OBIRCH 或光發射顯微鏡鎖定不良…
  • DPPM(測試漏失)
    DPPM(Defective Parts Per Million)是表示每出貨100萬個中不良品數量的品質指標,用以量化通過測試而流出到市場的測試漏失(test escape)。消…
  • 自適應測試(Adaptive Test)
    自適應測試是不將固定的測試項目一律套用,而是依量測資料與履歷動態改變測試內容、順序與判定基準的手法。代表例包括由鄰近晶粒分布畫出統計判定線的 PAT,以及依前段製程異常增減測試的運…
  • TEG(測試元件群)
    TEG(測試元件群)是為了以電性評估製程成果,而製作在晶圓上的評估專用測試圖案群。可單獨量測電晶體、電阻、通孔鏈、梳狀導線等,能直接取得從產品電路讀不到的臨界電壓或接觸電阻。主要配…
  • 小丘(Hillock)
    小丘(Hillock)是在鋁或銅等金屬導線表面形成的小丘狀突起。熱處理加熱時,熱膨脹比矽大的金屬膜受到壓縮應力,原子擴散並在表面隆起而形成。由於會造成與上下或相鄰導線短路,以合金化…
  • 拉線測試(拉力測試)
    拉線測試是將掛鉤掛在打線接合後的線弧上向上拉,檢查斷裂時的力量(拉力強度)與斷裂模式的接合品質測試。球脫落或第二焊點脫落等接合部剝離的斷裂代表接合不良。此測試規定於MIL-STD-…
  • 推力測試(推球・推晶測試)
    推力測試是以工具從側面推動接合部使其剝離,透過推力強度與破壞模式檢查接合強度的測試。包括推動打線球形接合部的推球測試(JESD22-B116)、錫球的推力測試(JESD22-B11…
  • 韋伯分布
    韋伯分布是表示產品或零件壽命差異的機率分布,累積故障率以F(t)=1−exp[−(t/η)^β]表示。形狀參數β小於1代表早期故障型,等於1代表隨機故障型(指數分布),大於1則代表…
  • 腐蝕(Corrosion)
    腐蝕(corrosion)是金屬與水分、氧、離子、藥液等發生化學反應而溶解或轉變為氧化物的劣化現象。在半導體領域,鋁導線蝕刻後殘留氯造成的腐蝕、銅CMP後的電化腐蝕(galvani…
  • 阿瑞尼斯圖(Arrhenius Plot)
    阿瑞尼斯圖是將反應或劣化速率的對數,對絕對溫度的倒數(1/T)作圖的圖表。遵循阿瑞尼斯方程式的現象會呈直線,可從其斜率求出活化能。在半導體中,用於整理擴散、氧化、CVD的溫度相依性…
  • 篩選(可靠度篩選)
    篩選(screening)意為「過篩、分選」,在半導體中是指對出貨前的產品施加應力或測試,剔除很快就會損壞的早期故障潛在品。包括預燒、電壓應力、溫度循環、IDDQ測試,以及剔除統計…
  • 抽樣檢驗
    抽樣檢驗是從產品批次中抽取若干試樣進行檢驗,再依結果判定整批合格與否的方法。比全數檢驗更能減少人力與費用,以AQL(允收品質水準)為基準的抽樣方式已經標準化。在半導體中用於進料檢驗…
  • PCT(壓力鍋試驗)
    PCT(壓力鍋試驗)是將半導體封裝置於如壓力鍋般加壓的高溫飽和水蒸氣(121℃・100%・約2大氣壓)中,在短時間內評估耐濕性的加速試驗。用以確認由樹脂滲入的水分所造成的焊墊腐蝕或…
  • SILC(應力誘發漏電流)
    SILC(應力誘發漏電流)是在薄氧化層施加高電場後,即使在低電壓下流過的漏電流也會增加的現象。電性應力使膜中產生陷阱,電子經由陷阱穿隧而造成。它會使快閃記憶體的資料保存能力劣化,也…

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最後更新:2026年10月8日