リフロー炉メーカー2社

リフロー炉は、はんだペーストやはんだボール、バンプを溶かして接合するための加熱炉です。基板やウェーハをコンベアで炉内に通し、予熱・均熱・本加熱(リフロー)・冷却の各ゾーンで決められた温度プロファイルをかけます。半導体パッケージングではフリップチップのバンプ接合やボール形成に使われ、酸化を防ぐ窒素雰囲気が基本です。フラックスを使わずギ酸(フォーミック酸)で酸化膜を還元する方式や、溶融中に減圧してボイドを抜く真空リフローも使われます。

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主要特徴

予熱・均熱・本加熱・冷却のゾーンで温度プロファイルをかけてはんだを溶かす
フリップチップのバンプ接合、はんだボールの形成に使う
窒素雰囲気で酸化を抑えるのが基本
ギ酸還元のフラックスレスリフローで洗浄工程を省ける
真空リフローで接合部のボイドを減らせる(パワーデバイスで重要)

よくある質問

フラックスレスリフローとは何ですか?▾
はんだ表面の酸化膜を除くためのフラックスを使わず、炉内に導入したギ酸(フォーミック酸)の蒸気で酸化膜を還元してから溶融させる方式です。フラックス残渣の洗浄が不要になるため、洗浄液が入り込みにくい狭ギャップのフリップチップや、残渣を嫌う光デバイス・パワーモジュールで使われます。
真空リフローはどんなときに使いますか?▾
はんだが溶けている間に炉内を減圧し、はんだの中にできた気泡(ボイド)を外へ抜く方式です。ボイドは熱抵抗を上げて放熱を悪くするため、大電流を流すパワーデバイスのダイアタッチや、大面積の接合で特に問題になります。

代表製品・スペック

製品写真
Heller Industries

1936MK5-F(フォーミック酸リフロー炉)

ギ酸(フォーミック酸)の蒸気で酸化膜を還元する、連続インライン式のフラックスレスリフロー炉。真空オプションあり。

方式フォーミック酸還元のフラックスレスリフロー(連続インライン)
安全規格SEMI S2/S8
クリーンルームクラス 100 対応オプション
オプションリフローゾーンの真空チャンバー

※ スペックは公開情報に基づく参考値です。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

メーカー

2社の主要メーカー

Heller Industries米国

米国ニュージャージー州のリフロー炉・キュア炉メーカー。SMT 実装向けの対流式リフロー炉に加え、半導体の先端パッケージングとパワーデバイス実装向けに、フォーミック酸を使うフラックスレスリフロー炉、真空リフロー炉、加圧キュア炉を供給する。

リフロー炉
MK7 リフロー炉1936MK5-F フォーミック酸リフロー炉真空リフロー炉
キュア炉
加圧キュア炉縦型キュア炉マガジンキュア炉
  • •フォーミック酸による連続インライン式のフラックスレスリフロー
  • •真空オプションでボイドの少ない接合
会社詳細
神港精機日本

真空ポンプ・真空コンポーネントと真空応用装置のメーカー。薄膜形成装置(蒸着・スパッタ・イオンプレーティング)、アッシングなどのプラズマ処理装置、真空はんだ付け・接合装置、真空熱処理装置を製造する。

成膜装置
真空蒸着装置イオンプレーティング装置スパッタリング装置
プラズマ・接合
アッシング装置大気圧プラズマ装置真空はんだ付け装置
  • •真空ポンプから装置まで自社で揃う
  • •蒸着・イオンプレーティングなど成膜方式の幅
会社詳細

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