Celero PLとは
Celero PL は、Onto Innovation の SiC と GaN をベースとするウェーハや化合物半導体材料向けの表面下欠陥の検査・分類装置です。
レーザーによる位相検出とイメージングに、独自の光学系と画像処理アルゴリズムを組み合わせ、100〜300mm のウェーハで最高水準のスループットと感度を実現します。
複数の光源とセンサーチャネルで、バルクウェーハやエピ層の表面下の結晶欠陥に加え、表面のパーティクル、傷、ピット、汚染、しみ、応力、ボイド、ウェーハ端のチップやクラックを検出・測定・画像化します。
主な特長
- •表面下の結晶欠陥を検出
- •100〜300mm 対応
- •多光源・多センサー
主な仕様
| 方式 | レーザー位相検出+イメージング(多光源・多センサー) |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | 100〜300 mm |
| 対象 | SiC・GaN などの化合物半導体ウェーハ |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLACandela® 8520 | KLACandela® 8720 | KLACandela® 8420 | レーザーテックSICA88 | レーザーテックSICA108 | レーザーテックGALOIS211 | Onto InnovationCelero™ PL |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | — | 2 入射角の散乱+フォトルミネッセンス | OSA(光学表面分析)・多チャネル検出 | — | 表面検査+フォトルミネッセンス(PL)同時検査 | コンフォーカル光学系・微分干渉光学系・波長選択 | レーザー位相検出+イメージング(多光源・多センサー) |
| 主要用途 | パワーデバイス用基板の品質管理 | RF・パワー・高輝度 LED 向け GaN | — | SiC ウェーハの出荷・受入検査、エピ工程管理 | — | — | — |
| 検査対象 | SiC・GaN 基板/エピウェーハ(パターンなし) | — | — | SiC ウェーハ・エピウェーハ | — | — | — |
| 検出欠陥 | 表面欠陥・エピ欠陥 | — | — | エピ欠陥・スクラッチ・BPD・積層欠陥(自動分類) | — | — | — |
| 関連機種 | Candela 8720(LED・化合物半導体向け) | — | — | SICA108(検査光学系を刷新した後継機) | — | — | — |
| 検出対象 | — | クラック・転位・ヒロック・マイクロピット・スリップライン・エピ欠陥 | — | — | 表面欠陥・基底面内転位(BPD)・積層欠陥(SF) | — | — |
| 対象 | — | — | GaAs・InP・LT・LN・ガラス・サファイアなど | — | — | — | SiC・GaN などの化合物半導体ウェーハ |
| 対応ウェハ径 | — | — | — | — | — | 最大 Φ8 インチ | 100〜300 mm |
1機種だけが掲載している項目(3件)
| 特徴 | — | — | 数分で全面検査・欠陥分類とウェーハマップ | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 機能 | — | — | — | — | 高精度自動欠陥分類・AGV/OHT 対応 | — | — |
| 検査時間 | — | — | — | — | — | 6 分/枚(Φ6 インチ・10x レンズ) | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •SiC・GaN の基板・エピ検査
掲載カテゴリ
Celero PLは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Onto Innovation
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
結晶欠陥検査装置のほかの製品
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関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07