Onto Innovation/結晶欠陥検査装置

Celero™ PL

SiC・GaN ウェーハの表面下の結晶欠陥を検査・分類するレーザー位相検出・フォトルミネッセンス検査装置。

Celero PLとは

Celero PL は、Onto Innovation の SiC と GaN をベースとするウェーハや化合物半導体材料向けの表面下欠陥の検査・分類装置です。

レーザーによる位相検出とイメージングに、独自の光学系と画像処理アルゴリズムを組み合わせ、100〜300mm のウェーハで最高水準のスループットと感度を実現します。

複数の光源とセンサーチャネルで、バルクウェーハやエピ層の表面下の結晶欠陥に加え、表面のパーティクル、傷、ピット、汚染、しみ、応力、ボイド、ウェーハ端のチップやクラックを検出・測定・画像化します。

主な特長

  • •表面下の結晶欠陥を検出
  • •100〜300mm 対応
  • •多光源・多センサー

主な仕様

方式レーザー位相検出+イメージング(多光源・多センサー)
対応ウェハ径100〜300 mm
対象SiC・GaN などの化合物半導体ウェーハ

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目KLACandela® 8520KLACandela® 8720KLACandela® 8420レーザーテックSICA88レーザーテックSICA108レーザーテックGALOIS211Onto InnovationCelero™ PL
方式—2 入射角の散乱+フォトルミネッセンスOSA(光学表面分析)・多チャネル検出—表面検査+フォトルミネッセンス(PL)同時検査コンフォーカル光学系・微分干渉光学系・波長選択レーザー位相検出+イメージング(多光源・多センサー)
主要用途パワーデバイス用基板の品質管理RF・パワー・高輝度 LED 向け GaN—SiC ウェーハの出荷・受入検査、エピ工程管理———
検査対象SiC・GaN 基板/エピウェーハ(パターンなし)——SiC ウェーハ・エピウェーハ———
検出欠陥表面欠陥・エピ欠陥——エピ欠陥・スクラッチ・BPD・積層欠陥(自動分類)———
関連機種Candela 8720(LED・化合物半導体向け)——SICA108(検査光学系を刷新した後継機)———
検出対象—クラック・転位・ヒロック・マイクロピット・スリップライン・エピ欠陥——表面欠陥・基底面内転位(BPD)・積層欠陥(SF)——
対象——GaAs・InP・LT・LN・ガラス・サファイアなど———SiC・GaN などの化合物半導体ウェーハ
対応ウェハ径—————最大 Φ8 インチ100〜300 mm
1機種だけが掲載している項目(3件)
特徴——数分で全面検査・欠陥分類とウェーハマップ————
機能————高精度自動欠陥分類・AGV/OHT 対応——
検査時間—————6 分/枚(Φ6 インチ・10x レンズ)—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •SiC・GaN の基板・エピ検査

掲載カテゴリ

Celero PLは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Onto Innovation

Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。

Onto Innovation の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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