Onto Innovation/ウェハ検査装置

Dragonfly® G3

ラインスキャン撮像でサブミクロンの欠陥を高速に検出する Onto Innovation のパターン検査装置。2D 検査と 3D 計測を組み合わせる。

Dragonfly G3とは

Dragonfly G3 は、Onto Innovation のパターン付きウェーハ検査装置です。ラインスキャン撮像技術でサブミクロンの欠陥を高速に検出し、研究開発から量産まで広く採用されています。2D と 3D の技術を組み合わせ、歩留まりを損なう欠陥の検出と、重要な形状の計測を1台で行います。

照明チャンネルは明視野、暗視野、埋め込み欠陥向けの高速 IR、目に見えない有機残渣を検出する Clearfind 技術を備えます。機械学習のアルゴリズムで、欠陥検出、ニューサンス(疑似欠陥)の低減、分類までを装置上で完結させます。

膜厚や構造プロファイル、基板厚の計測など複数の 3D 計測機能を統合でき、最新の 3Di 技術で精密なバンプ高さ計測を行います。オプションの EB40 モジュールでエッジと裏面も検査でき、前工程・後工程の出荷品質保証(OQA)を全面検査でカバーします。

主な特長

  • •ラインスキャン撮像によるサブミクロン欠陥の高速検出
  • •明視野・暗視野・高速 IR・Clearfind の照明チャンネル
  • •機械学習による欠陥検出・ニューサンス低減・分類
  • •3Di バンプ高さ計測、EB40 でエッジ・裏面検査

主な仕様

検査対象パターン付きウェーハ(先端パッケージ)
検出方式明視野・暗視野・高速 IR・Clearfind(有機残渣)
特徴3Di によるバンプ高さ計測、EB40 でエッジ・裏面検査
主要用途RDL・マイクロバンプ・Cu ピラー・接合ウェーハ

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目KLASurfscan® SP7XPOnto InnovationDragonfly® G3日立ハイテクDI4600(暗視野式ウェーハ欠陥検査装置)CamtekEagle G5
検査対象パターンなしウェーハ(ベア・膜付き・レジスト)パターン付きウェーハ(先端パッケージ)パターン付きウェーハ(φ300 mm 専用)パターン付きウェーハ(先端パッケージ)
検出方式DUV レーザー(位相差チャネル・垂直照明)明視野・暗視野・高速 IR・Clearfind(有機残渣)暗視野(シートビーム・空間フィルタ)2D 検査・3D 計測
主要用途装置・工程・材料の品質認定とモニタRDL・マイクロバンプ・Cu ピラー・接合ウェーハ先端メモリ・ロジックのインライン欠陥管理HPC・CIS・SiC、微細マイクロバンプ・ハイブリッド接合
特徴—3Di によるバンプ高さ計測、EB40 でエッジ・裏面検査高スループットと検出感度の両立・高い装置間マッチング—
1機種だけが掲載している項目(1件)
検出感度12.5 nm 検査モード———

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •再配線層(RDL)の現像後・エッチング後検査
  • •マイクロバンプ・Cu ピラー、再構成・接合ウェーハ
  • •ダイシング後検査・出荷品質保証

掲載カテゴリ

Dragonfly G3は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Onto Innovation

Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。

Onto Innovation の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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