Dragonfly® G3
ラインスキャン撮像でサブミクロンの欠陥を高速に検出する Onto Innovation のパターン検査装置。2D 検査と 3D 計測を組み合わせる。
Dragonfly G3とは
Dragonfly G3 は、Onto Innovation のパターン付きウェーハ検査装置です。ラインスキャン撮像技術でサブミクロンの欠陥を高速に検出し、研究開発から量産まで広く採用されています。2D と 3D の技術を組み合わせ、歩留まりを損なう欠陥の検出と、重要な形状の計測を1台で行います。
照明チャンネルは明視野、暗視野、埋め込み欠陥向けの高速 IR、目に見えない有機残渣を検出する Clearfind 技術を備えます。機械学習のアルゴリズムで、欠陥検出、ニューサンス(疑似欠陥)の低減、分類までを装置上で完結させます。
膜厚や構造プロファイル、基板厚の計測など複数の 3D 計測機能を統合でき、最新の 3Di 技術で精密なバンプ高さ計測を行います。オプションの EB40 モジュールでエッジと裏面も検査でき、前工程・後工程の出荷品質保証(OQA)を全面検査でカバーします。
主な特長
- •ラインスキャン撮像によるサブミクロン欠陥の高速検出
- •明視野・暗視野・高速 IR・Clearfind の照明チャンネル
- •機械学習による欠陥検出・ニューサンス低減・分類
- •3Di バンプ高さ計測、EB40 でエッジ・裏面検査
主な仕様
| 検査対象 | パターン付きウェーハ(先端パッケージ) |
|---|---|
| 検出方式 | 明視野・暗視野・高速 IR・Clearfind(有機残渣) |
| 特徴 | 3Di によるバンプ高さ計測、EB40 でエッジ・裏面検査 |
| 主要用途 | RDL・マイクロバンプ・Cu ピラー・接合ウェーハ |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLASurfscan® SP7XP | Onto InnovationDragonfly® G3 | 日立ハイテクDI4600(暗視野式ウェーハ欠陥検査装置) | CamtekEagle G5 |
|---|---|---|---|---|
| 検査対象 | パターンなしウェーハ(ベア・膜付き・レジスト) | パターン付きウェーハ(先端パッケージ) | パターン付きウェーハ(φ300 mm 専用) | パターン付きウェーハ(先端パッケージ) |
| 検出方式 | DUV レーザー(位相差チャネル・垂直照明) | 明視野・暗視野・高速 IR・Clearfind(有機残渣) | 暗視野(シートビーム・空間フィルタ) | 2D 検査・3D 計測 |
| 主要用途 | 装置・工程・材料の品質認定とモニタ | RDL・マイクロバンプ・Cu ピラー・接合ウェーハ | 先端メモリ・ロジックのインライン欠陥管理 | HPC・CIS・SiC、微細マイクロバンプ・ハイブリッド接合 |
| 特徴 | — | 3Di によるバンプ高さ計測、EB40 でエッジ・裏面検査 | 高スループットと検出感度の両立・高い装置間マッチング | — |
1機種だけが掲載している項目(1件)
| 検出感度 | 12.5 nm 検査モード | — | — | — |
|---|
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •再配線層(RDL)の現像後・エッチング後検査
- •マイクロバンプ・Cu ピラー、再構成・接合ウェーハ
- •ダイシング後検査・出荷品質保証
掲載カテゴリ
Dragonfly G3は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Onto Innovation
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
ウェハ検査装置のほかの製品
Onto Innovationのほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06