JetStep S3500とは
JetStep S3500 は、Onto Innovation のパネル露光装置です。OSAT に先端パッケージの量産用リソグラフィを提供し、最大 650 × 650mm の基板でファンアウトのパネルレベルパッケージを支えます。
ファンアウトパッケージが大きく複雑になり、ウェーハではなくパネル基板が必要になるなかで、配置精度の誤差、熱膨張の違い、パネルの反りによるダイのずれに対応します。
59.4 × 59.4mm の大きな露光フィールドと、L/S 2/2µm(オプションで 1/1µm)の解像度を持ちます。複数の露光波長に対応し、新しい感光性ポリマーのプロセス開発に向いています。反ったパネルの搬送や、その場でのフォーカス調整などのオプションもあります。
主な特長
- •最大 650 × 650mm
- •露光フィールド 59.4mm 角
- •L/S 2/2µm(1/1µm オプション)
- •ダイのずれに対応
主な仕様
| 対応基板 | 最大 650 × 650 mm |
|---|---|
| 露光フィールド | 59.4 × 59.4 mm |
| 解像度 | L/S 2/2µm(オプションで 1/1µm) |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ニコン(Nikon)NSR-SF155 | ニコン(Nikon)NSR-2205iL1 | キヤノン(Canon)FPA-5550iZ2 | キヤノン(Canon)FPA-5550iX | キヤノン(Canon)FPA-3030i6 | キヤノン(Canon)FPA-3030i5a | キヤノン(Canon)FPA-3030iWa | ASMLTWINSCAN XT:400M | ASMLTWINSCAN XT:260 | Onto InnovationJetStep® X500 | Onto InnovationJetStep® S3500 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 解像度 | 280 nm 以下 | 350nm 以下(オプション適用時) | 350 nm 以下 | — | — | — | — | オプションで 220nm | — | — | L/S 2/2µm(オプションで 1/1µm) |
| 光源 | i 線(365 nm) | — | i 線(365 nm) | — | — | — | — | i 線(水銀ランプ) | i 線(水銀ランプ) | — | — |
| 解像力 | — | — | — | 0.5 µm | 0.35µm 以下 | — | 0.8µm 以下 | — | — | — | — |
| 開口数(NA) | 0.62 | — | 0.57 ~ 0.45(自動可変) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| スループット | 200 枚/時 以上 | — | — | — | — | — | — | — | 毎時 270 枚(340 mJ/cm²) | — | — |
| 重ね合わせ精度 | 25 nm 以下 | — | SMO 18 nm 以下・MMO 25 nm 以下(オプション) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 関連機種 | NSR-2205iL1(解像度 350 nm 以下) | — | FPA-5550iZ(前機種、スループット約 20% 向上) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| ウエハーサイズ | — | — | — | — | — | 50〜200 mm | 50〜200 mm | — | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(18件)
| 光源・NA | — | i 線(365nm)・0.45 | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 縮小倍率・露光範囲 | — | 1:5・22 × 22mm | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| ウェハサイズ | — | 2〜8 インチ(オプション) | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応ウェハ径 | — | — | 200/300 mm(選択) | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 画面サイズ | — | — | — | 50 × 50 mm | — | — | — | — | — | — | — |
| アライメント | — | — | — | 明視野・暗視野検出・赤外による裏面アライメント(オプション) | — | — | — | — | — | — | — |
| NA | — | — | — | — | 0.30〜0.63(選択可能) | — | — | — | — | — | — |
| 処理枚数 | — | — | — | — | 毎時 130 枚(8 インチ) | — | — | — | — | — | — |
| 生産性 | — | — | — | — | — | 従来機比 約 17% 向上(8 インチ) | — | — | — | — | — |
| 消費電力 | — | — | — | — | — | 従来機比 約 20% 削減 | — | — | — | — | — |
| NA・画面サイズ | — | — | — | — | — | — | 0.24〜0.16(自動可変)・52 × 52mm | — | — | — | — |
| 重ね合わせ | — | — | — | — | — | — | — | ウェーハ全面で 20nm 以下 | — | — | — |
| 投影光学系 | — | — | — | — | — | — | — | — | 可変 NA 0.25〜0.35・2 倍縮小 | — | — |
| 対象基板 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | CCL・FR4・複合材・ガラスなどのパネル | — |
| 特徴 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 業界最大の露光フィールド・大きな焦点深度・XY 独立の倍率補正 | — |
| 主要用途 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | AICS・チップレットの大型パッケージ | — |
| 対応基板 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 最大 650 × 650 mm |
| 露光フィールド | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 59.4 × 59.4 mm |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ファンアウトのパネルレベルパッケージ
掲載カテゴリ
JetStep S3500は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Onto Innovation
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
i線ステッパーのほかの製品
Onto Innovationのほかの製品
Dragonfly® G3(ウェハ検査装置)NSX® 330(マクロ検査装置)Iris™ G2(膜厚計測装置)Atlas® V(光学式寸法測定装置(OCD))PrimaScan™(異物・パーティクル検査装置)PrimaScan™ P(ウェハレベルパッケージング)IVS 380(オーバーレイ計測装置)IVS 280(オーバーレイ計測装置)Celero™ PL(結晶欠陥検査装置)PrecisionWoRx® VX4(プローブカード)F30™(マクロ検査装置)Atlas® G6(光学式寸法測定装置(OCD))Atlas® III+(光学式寸法測定装置(OCD))JetStep® X500(i線ステッパー)IMPULSE®+(膜厚計測装置)IMPULSE® V(膜厚計測装置)Echo™(膜厚計測装置)NovusEdge® G2(ウェハ基板検査装置)FAaST® CV/IV(膜組成分析装置(XRF/FTIR))FAaST® Digital SPV(異物・汚染分析装置)CnCV®(化合物半導体)Element™ S(膜組成分析装置(XRF/FTIR))Element™ G2(膜組成分析装置(XRF/FTIR))Aspect®(光学式寸法測定装置(OCD))Aspect® S(光学式寸法測定装置(OCD))Iris™ S(膜厚計測装置)Dragonfly® G5(ウェハレベルパッケージング)Firefly® G5(ウェハレベルパッケージング)EB40™(マクロ検査装置)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07