NovusEdge G2とは
NovusEdge G2 は、Onto Innovation の 300mm パターンなしウェーハ向けのエッジ・ノッチ・裏面検査装置です。モジュール構成で、速く確実に検査します。
現在と先端のノード向けに、パターンなしウェーハのエッジと裏面を高い感度で検査します。同じ自動化プラットフォームに検査モジュールを組み合わせて、スループットを高めながら設置面積を小さく保ち、所有コストを改善します。
自動化プラットフォームと検査モジュールの両方でエッジを持つハンドリングを使い、製造に必要な清浄度を保ちます。オプションで高感度のノッチ検査も追加できます。欠陥は実行時に自動で分類されるため、手作業のレビューを減らせます。
主な特長
- •エッジ・ノッチ・裏面検査
- •モジュール構成
- •自動欠陥分類
主な仕様
| 対象 | 300mm パターンなしウェーハのエッジ・ノッチ・裏面 |
|---|---|
| 構成 | モジュール構成（ノッチ検査はオプション） |
| 機能 | 実行時の自動欠陥分類 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | コベルコ科研SBW シリーズ（平坦度・形状測定装置） | ナプソンNC-80MAP | KLASurfscan® SC1 | KLAWaferSight™ 2+ | Onto InnovationNovusEdge® G2 | レーザーテックMAGICS M5640 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 測定項目 | Bow・Warp・GBIR（TTV）・SFQR | 抵抗率・シート抵抗（2D／3D マップ） | — | 平坦度・両面ナノトポグラフィ・エッジロールオフ | — | — |
| 主要用途 | ウェーハ形状の品質管理 | 基板の抵抗率検査 | 基板・装置・工程・材料の認定と監視 | — | — | — |
| 対象 | — | — | パターンなしの SiC・GaN などの化合物ウェーハ | 研磨・エピウェーハ、エンジニアード基板 | 300mm パターンなしウェーハのエッジ・ノッチ・裏面 | — |
| 測定方式 | 非接触ラインスキャン | 非接触（渦電流法） | — | — | — | — |
| 対象工程 | スライス・ラップ・エッチ・ポリッシュ後 | Si・SiC・GaN ウェーハ | — | — | — | — |
| 方式 | — | — | DUV レーザー・暗視野／PL／ヘイズの多チャネル | ベアウェーハ形状計測 | — | — |
1機種だけが掲載している項目（5件）
| 構成 | — | — | — | — | モジュール構成（ノッチ検査はオプション） | — |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 機能 | — | — | — | — | 実行時の自動欠陥分類 | — |
| 光源 | — | — | — | — | — | 532 nm |
| 最高検出感度 | — | — | — | — | — | 50nm（ミラーポリッシュウェーハ上の PSL） |
| 検査時間 | — | — | — | — | — | 22 分／枚（300mm ノーマルスキャン） |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ウェーハ製造の出荷検査
掲載カテゴリ
NovusEdge G2は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Onto Innovation
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
ウェハ基板検査装置のほかの製品
Onto Innovationのほかの製品
Dragonfly® G3（ウェハ検査装置）NSX® 330（マクロ検査装置）Iris™ G2（膜厚計測装置）Atlas® V（光学式寸法測定装置（OCD））PrimaScan™（異物・パーティクル検査装置）PrimaScan™ P（ウェハレベルパッケージング）IVS 380（オーバーレイ計測装置）IVS 280（オーバーレイ計測装置）Celero™ PL（結晶欠陥検査装置）PrecisionWoRx® VX4（プローブカード）F30™（マクロ検査装置）Atlas® G6（光学式寸法測定装置（OCD））Atlas® III+（光学式寸法測定装置（OCD））JetStep® X500（i線ステッパー）JetStep® S3500（i線ステッパー）IMPULSE®+（膜厚計測装置）IMPULSE® V（膜厚計測装置）Echo™（膜厚計測装置）FAaST® CV/IV（膜組成分析装置（XRF/FTIR））FAaST® Digital SPV（異物・汚染分析装置）CnCV®（化合物半導体）Element™ S（膜組成分析装置（XRF/FTIR））Element™ G2（膜組成分析装置（XRF/FTIR））Aspect®（光学式寸法測定装置（OCD））Aspect® S（光学式寸法測定装置（OCD））Iris™ S（膜厚計測装置）Dragonfly® G5（ウェハレベルパッケージング）Firefly® G5（ウェハレベルパッケージング）EB40™（マクロ検査装置）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07