エリプソメータメーカー3社
エリプソメータは、試料表面で反射した光の偏光状態の変化（振幅比Ψと位相差Δ）を測定し、薄膜の膜厚と光学定数（屈折率n・消衰係数k）を非接触で求める計測装置です。分光エリプソメトリでは広い波長域のスペクトルを解析することで、多層膜の各層厚や界面層まで分離できます。ゲート絶縁膜・レジスト・反射防止膜などサブnm精度が求められる薄膜の管理に用いられ、解析モデルの精度が測定結果の信頼性を決めます。
主要特徴
メーカー
3社の主要メーカー
分析・計測機器の国内大手メーカー。半導体製造向けにはガス分析計・パーティクルカウンタ・分光エリプソメータなど、プロセス管理に不可欠な計測機器を展開する。
- •分析・計測機器で国内大手
- •半導体プロセス向けガス分析に強み
瞬時マルチ測光システムを核とする分光計測メーカー。分光方式の膜厚測定装置や光学特性評価装置を供給し、レジスト膜や薄膜の厚み・屈折率の測定に用いられる。
- •瞬時マルチ測光による高速分光測定
- •膜厚と光学定数を同時に評価
Rudolph Technologies と Nanometrics の統合で誕生した検査・計測メーカー。光学検査、膜厚計測、先端パッケージング計測に強み。
- •光学ウェハ検査・膜厚計測で世界有数のポジション
- •先端パッケージング（FO-WLP・HBM）向け計測ソリューション
関連カテゴリ
CD-SEM（Critical Dimension Scanning Electron Microscope）は、ナノメートル精度でリソグラフィ・エッチング後のパターン線幅（CD）を非破壊計測する装置です。
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メーカー 2 社膜組成分析装置（XRF/FTIR）膜組成分析装置は、成膜した薄膜の組成比・膜厚・不純物濃度を非破壊で評価する装置群です。
メーカー 4 社平坦度・ウェハ厚測定装置平坦度・ウェハ厚測定装置は、ウェハの厚さ・TTV（厚さばらつき）・反り（Warp／Bow）・ナノトポグラフィといった形状パラメータを測定する装置です。
メーカー 3 社ライフタイム測定装置ライフタイム測定装置は、シリコン基板中で生成された少数キャリアが再結合して消滅するまでの平均時間（キャリアライフタイム）を測定する装置です。
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メーカー 3 社オーバーレイ計測装置オーバーレイ計測装置は、多層リソグラフィ工程において前のパターン層と現在の露光層の位置ずれ（オーバーレイ誤差）を光学的に高速・精密計測する装置です。
メーカー 3 社シート抵抗測定装置シート抵抗測定装置は、拡散層や金属薄膜の単位面積あたりの抵抗（Ω/sq）を測定し、ドーピング濃度や膜厚の面内均一性を評価する装置です。
メーカー 3 社段差・表面粗さ測定装置段差・表面粗さ測定装置は、薄膜の段差量や表面のミクロな凹凸を測定する装置です。
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