前工程(ウェハプロセス)

成膜エンジニア(CVD・ALD工程)

最終更新:2026-09-28

この職種は何をするのか

成膜エンジニアは、CVDやALDでウェハ上に絶縁膜・ゲート絶縁膜・ハードマスクなどの薄膜を形成する工程を担当する職種です。管理するのは膜厚だけでなく、組成・密度・応力・段差被覆(ステップカバレッジ)といった膜質全体です。微細化で溝や穴が深く細くなるにつれ、ALDのように原子層単位で膜を積む技術の比重が増しています。

仕事内容

膜質と段差被覆の作り込み

温度・圧力・ガス流量を振り、膜厚均一性、屈折率、応力、埋め込み性を評価します。深い溝の中にボイドやシームを作らずに埋めることは、先端ノードで最も難しい課題の一つです。

前駆体(プリカーサ)の評価

high-k膜や金属膜では前駆体の選択が膜質を決めます。材料メーカーから候補を受け取り、成膜速度・不純物・安定供給性を見て採用を判断します。

パーティクルとチャンバー管理

チャンバー内壁やシャワーヘッドに付いた膜は剥がれてパーティクルになります。クリーニング周期とシーズニングを設計し、欠陥数を管理図で監視します。

新材料・新構造の導入

low-k膜、high-k膜、エアギャップのように、新しい材料や構造の導入は成膜工程から始まることが多く、プロセスインテグレーションと組んで評価を進めます。

担当する工程・装置

CVD装置半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置ALD装置半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置PECVD(プラズマCVD)半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置LPCVD(低圧CVD)半導体製造装置 / 前工程装置 / 成膜装置エリプソメータ半導体製造装置 / 前工程装置 / 計測装置ALD/CVD前駆体材料半導体製造装置 / 材料High-k絶縁膜半導体製造装置 / 材料

必要になる知識・用語

CVDChemical Vapor DepositionALDAtomic Layer DepositionPECVDPlasma-Enhanced Chemical Vapor DepositionLPCVDLow Pressure Chemical Vapor Depositionステップカバレッジ(段差被覆性)Step CoverageTEOS(テトラエトキシシラン)Tetraethyl OrthosilicateHigh-k誘電体High-k DielectricLow-k絶縁膜(低誘電率材料)Low-k Dielectricボイド(パッケージ内の空隙欠陥)VoidシームSeamシャワーヘッドShower Head / Gas Distribution Plate層間絶縁膜(ILD)Interlayer Dielectric

主な企業

Applied MaterialsUS東京エレクトロン(TEL)JPKokusai Electric(国際電気)JPASMインターナショナルNLLam ResearchUSジュソンエンジニアリング(Jusung Engineering)KRエア・リキード(半導体)FR

関連する技術比較

ALDとCVDの違い(原子層成膜 vs 化学気相成膜)CVDとPVDの違い(成膜プロセス比較)PECVDとLPCVDの違い(プラズマCVD vs 熱CVD)ALDとPVDの違い(原子層成膜 vs スパッタ成膜)

よくある質問

CVDとALDは同じ担当者が扱いますか?

ファブの規模によります。大規模ファブでは絶縁膜CVD、ALD(high-k・金属ゲート)、エピタキシャル成長のように細かく分かれ、小規模ファブでは成膜全般を一人が見ることもあります。

化学系の出身でも就けますか?

むしろ化学系・材料系の出身者が多い職種です。前駆体の反応、膜の組成と結合状態、表面反応の理解が直接役立ちます。

成膜工程で一番多いトラブルは何ですか?

パーティクル(異物)です。チャンバー内に堆積した膜の剥がれや、ガス配管内での反応生成物が原因になりやすく、欠陥検査の結果とチャンバー履歴を突き合わせて原因を追います。

関連する職種

プロセスエンジニア前工程(ウェハプロセス)エッチングエンジニア前工程(ウェハプロセス)配線工程エンジニア前工程(ウェハプロセス)エピタキシャル成長前工程(ウェハプロセス)材料開発装置・材料メーカー