Candela 8420とは
Candela 8420 は、KLA の化合物半導体材料向けの表面欠陥検査装置です。多チャネルの検出とルールに基づく欠陥の分類で、不透明・半透明・透明なウェーハの粒子や傷を検出します。
対象は GaAs、InP、タンタル酸リチウム（LT）、ニオブ酸リチウム（LN）、ガラス、サファイアなどです。独自の OSA（光学表面分析）構造で、散乱強度、表面の凹凸、反射率、位相のずれを同時に測り、注目すべき欠陥を自動で検出・分類します。
数分でウェーハ全面を検査し、高解像度の画像と、欠陥分類とウェーハマップを含む自動の検査レポートを作ります。
主な特長
- •OSA による多チャネル同時計測
- •透明・不透明ウェーハに対応
- •数分で全面検査
主な仕様
| 方式 | OSA（光学表面分析）・多チャネル検出 |
|---|---|
| 対象 | GaAs・InP・LT・LN・ガラス・サファイアなど |
| 特徴 | 数分で全面検査・欠陥分類とウェーハマップ |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLACandela® 8520 | KLACandela® 8720 | KLACandela® 8420 | レーザーテックSICA88 | レーザーテックSICA108 | レーザーテックGALOIS211 | Onto InnovationCelero™ PL |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | — | 2 入射角の散乱＋フォトルミネッセンス | OSA（光学表面分析）・多チャネル検出 | — | 表面検査＋フォトルミネッセンス（PL）同時検査 | コンフォーカル光学系・微分干渉光学系・波長選択 | レーザー位相検出＋イメージング（多光源・多センサー） |
| 主要用途 | パワーデバイス用基板の品質管理 | RF・パワー・高輝度 LED 向け GaN | — | SiC ウェーハの出荷・受入検査、エピ工程管理 | — | — | — |
| 検査対象 | SiC・GaN 基板／エピウェーハ（パターンなし） | — | — | SiC ウェーハ・エピウェーハ | — | — | — |
| 検出欠陥 | 表面欠陥・エピ欠陥 | — | — | エピ欠陥・スクラッチ・BPD・積層欠陥（自動分類） | — | — | — |
| 関連機種 | Candela 8720（LED・化合物半導体向け） | — | — | SICA108（検査光学系を刷新した後継機） | — | — | — |
| 検出対象 | — | クラック・転位・ヒロック・マイクロピット・スリップライン・エピ欠陥 | — | — | 表面欠陥・基底面内転位（BPD）・積層欠陥（SF） | — | — |
| 対象 | — | — | GaAs・InP・LT・LN・ガラス・サファイアなど | — | — | — | SiC・GaN などの化合物半導体ウェーハ |
| 対応ウェハ径 | — | — | — | — | — | 最大 Φ8 インチ | 100〜300 mm |
1機種だけが掲載している項目（3件）
| 特徴 | — | — | 数分で全面検査・欠陥分類とウェーハマップ | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 機能 | — | — | — | — | 高精度自動欠陥分類・AGV／OHT 対応 | — | — |
| 検査時間 | — | — | — | — | — | 6 分／枚（Φ6 インチ・10x レンズ） | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •化合物・圧電基板の粒子・傷検査
掲載カテゴリ
Candela 8420は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
結晶欠陥検査装置のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP（ウェハ検査装置）Teron™ 6xx シリーズ（マスク検査装置）Puma™ 9980（欠陥検査装置）Candela® 8520（結晶欠陥検査装置）eSL10™（電子線（EB）検査装置）39xx シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Archer™ 750（オーバーレイ計測装置）SpectraFilm™ F10（膜厚計測装置）Therma-Probe® 680XP（イオン注入量測定装置）SpectraShape™ 12k（光学式寸法測定装置（OCD））Filmetrics® R54（シート抵抗測定装置）Tencor® P-17（段差・表面粗さ測定装置）CIRCL™（マクロ検査装置）Therma-Probe® 780（イオン注入量測定装置）ATL100™（オーバーレイ計測装置）Archer™ Power（オーバーレイ計測装置）Axion® T2000（光学式寸法測定装置（OCD））Aleris® 9350（膜厚計測装置）PWG5™（平坦度・ウェハ厚測定装置）CAPRES A301 microRSP®（シート抵抗測定装置）CAPRES CIPTech®（シート抵抗測定装置）MicroSense® PKMRAM（膜組成分析装置（XRF/FTIR））MicroSense® KerrMapper（膜組成分析装置（XRF/FTIR））29xx シリーズ（2965／2950 EP）（光学式ウェーハ検査装置）C30x シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Voyager® 1035（欠陥検査装置）8935（8 シリーズ）（欠陥検査装置）Micro-SR™（レビューSEM）Castor™（光学式ウェーハ検査装置）eDRX1™（レビューSEM）eDR7380™（レビューSEM）EtchTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））HighTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））CryoTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））WetTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））Smartwafer2™（センサウェハ（T/C付ウェハ））ScannerTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））PlasmaSuite（プロセスモニター（EPD/OES））Surfscan® SC1（ウェハ基板検査装置）Candela® 8720（結晶欠陥検査装置）WaferSight™ 2+（ウェハ基板検査装置）Kronos™ 1190XR（ウェハレベルパッケージング）irArcher® 007（ハイブリッドボンディング装置）Zeta™-5xx／6xx シリーズ（段差・表面粗さ測定装置）SPTS Osprey® PECVD（TSV形成装置）SPTS Sigma® PVD（PVD装置）SPTS Delta™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））SPTS Omega® Rapier™（MEMS）SPTS Mosaic™ プラズマダイシング（ダイシングソー）Primaxx® Monarch 300（MEMS）Xactix® X4（MEMS）MVD300®（MEMS）ICOS™ F260（最終テスト装置）ICOS™ T3／T7（最終テスト装置）Quali-Line® Prima® 2（薬液供給システム）QualiSurf®（薬液供給システム）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07