KLA/結晶欠陥検査装置

Candela® 8520

パワーデバイス向け SiC・GaN 基板とエピウェーハの欠陥検査装置。

Candela 8520とは

Candela 8520 は、KLA の化合物半導体材料向け 表面検査・フォトルミネッセンス(PL)検査装置です。第2世代の PL・表面統合検査システムで、SiC と GaN の基板・エピタキシャル層の欠陥を高度に評価します。

表面の凹凸、表面反射率、位相シフト、フォトルミネッセンスを捉え、幅広い重要欠陥(DOI)を自動で検出・分類します。独自の光学技術で、2つの入射角での散乱強度を同時に測定します。

GaN ウェーハでは転位、ピット、ホールを検出・分類し、GaN 反応炉の欠陥管理に使われます。パワーデバイス用途では、透明な SiC ウェーハの検査と、基底面転位(BPD)などの結晶欠陥の分類を行います。

主な特長

  • •表面検査とフォトルミネッセンス(PL)検査の統合
  • •2つの入射角での散乱強度を同時測定
  • •結晶欠陥(BPD など)の自動検出・分類

主な仕様

検査対象SiC・GaN 基板/エピウェーハ(パターンなし)
検出欠陥表面欠陥・エピ欠陥
関連機種Candela 8720(LED・化合物半導体向け)
主要用途パワーデバイス用基板の品質管理

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目KLACandela® 8520レーザーテックSICA88
検査対象SiC・GaN 基板/エピウェーハ(パターンなし)SiC ウェーハ・エピウェーハ
検出欠陥表面欠陥・エピ欠陥エピ欠陥・スクラッチ・BPD・積層欠陥(自動分類)
関連機種Candela 8720(LED・化合物半導体向け)SICA108(検査光学系を刷新した後継機)
主要用途パワーデバイス用基板の品質管理SiC ウェーハの出荷・受入検査、エピ工程管理

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •SiC 基板・エピウェーハの結晶欠陥検査
  • •GaN の転位・ピット管理

掲載カテゴリ

Candela 8520は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

KLA

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

KLA の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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