東京エレクトロン(TEL)/バックグラインダー

Ulucus™ G

研削・スクラブ洗浄・スピンウェットエッチング・検査を 1 台にまとめた TEL のウェーハ薄化装置。

Ulucus Gとは

Ulucus G は、東京エレクトロン(TEL)のウェーハ薄化装置です。独自開発の研削加工ユニットを、量産実績の多い塗布現像装置のプラットフォーム LITHIUS Pro Z に組み合わせ、シリコンウェーハの高品質化と量産での省人化を同時に実現します。

先端パターニングでは、母材となるシリコンウェーハへの平坦度の要求が一段と高まっています。また、人手不足を背景に、ウェーハ製造工程でも装置内での連続工程化と自動化が求められています。

新しい研削ユニットに、スクラブ洗浄とスピンウェットエッチングのユニットを組み合わせ、すべてを枚葉で処理するため、ウェーハごとに品質を管理できます。装置内の検査ユニットで各工程の測定結果をフィードバック・フィードフォワード制御に使い、高平坦度・低ダメージ・クリーンなウェーハ製造を人の技能に頼らずに実現します。

主な特長

  • •研削・洗浄・エッチング・検査を一体化
  • •すべて枚葉処理
  • •装置内でのフィードバック制御

主な仕様

方式枚葉の研削+スクラブ洗浄+スピンウェットエッチング
特徴装置内の検査ユニットでフィードバック/フィードフォワード制御
ベースLITHIUS Pro Z プラットフォーム

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目DISCODGP8761DISCODAG810DISCODFG8340DISCODFG8360DISCODFG8540DISCODFG8560DISCODFG8830DISCODGP8762東京エレクトロン(TEL)Ulucus™ G
対応ウェハ径200/300 mmΦ8 インチ(オプションで Φ300 mm)Φ4〜8 インチΦ300 mmΦ8 インチ(Φ4〜8 インチ)Φ300 mm(Φ200 mm もユニバーサルチャックで可)Φ4〜6 インチ(支持基板 Φ5〜8 インチ)Φ300 mm—
方式—1 軸 1 チャックテーブル(インフィード研削)1 軸 2 チャックテーブル1 軸 2 チャックテーブル(インフィード研削)2 軸 3 チャックテーブル2 軸 3 チャックテーブル4 軸 5 チャックテーブル3 軸 4 チャックテーブル(粗研削・仕上げ研削・ドライポリッシュ)枚葉の研削+スクラブ洗浄+スピンウェットエッチング
特徴——厚みをリアルタイム測定しながら純水のみで加工———高剛性・高出力スピンドル・大口径ホイール—装置内の検査ユニットでフィードバック/フィードフォワード制御
装置質量————約 3,100 kg(DFG850 比 28% 軽量)約 4,000 kg(DFG860 比 20% 軽量)———
1機種だけが掲載している項目(7件)
研削方式インフィード研削(Z1/Z2)+ストレスリリーフ(Z3)————————
構成3軸・4チャックテーブル————————
主要用途DBG/SDBG・ウェーハ薄化————————
装置寸法—600 × 1,700 × 1,780 mm———————
スピンドル———定格 7.5kW・1,000〜4,500 min⁻¹—————
3 軸目の選択———————ドライポリッシュ(標準)・CMP・研削—
ベース————————LITHIUS Pro Z プラットフォーム

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •シリコンウェーハの薄化・平坦化

掲載カテゴリ

Ulucus Gは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

東京エレクトロン(TEL)

世界第3位の半導体製造装置メーカー。塗布現像、成膜、エッチング装置で高いシェアを誇り、先端プロセスに不可欠な技術を提供。

東京エレクトロン(TEL) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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