CAPRES CIPTechとは
CAPRES CIPTech は、KLA の電気・磁気特性の計測装置です。MRAM、STT-RAM、磁気記録ヘッド、磁気センサーで重要な磁気抵抗（MR）とトンネル抵抗（RA）を、ブランケットの MTJ（磁気トンネル接合）積層の上で直接測ります。
IBM からライセンスを受けた面内電流トンネリング技術（CIPTech）は、従来の方法より計測が速く、コストと時間を大きく減らします。12 本の微小なカンチレバー電極を持つ独自のマルチポイントプローブで MTJ の表面に触れ、MR と RA を自動で求めます。
全自動の CAPRES A301 CIPTech と、半自動／手動の CAPRES M300 CIPTech があり、300mm のフルウェーハやサンプル片を非破壊で測れます。
主な特長
- •CIPTech による MR・RA の直接計測
- •12 本のカンチレバー電極
- •全自動／半自動の構成
主な仕様
| 方式 | 面内電流トンネリング（CIPTech・IBM からライセンス） |
|---|---|
| 測定項目 | 磁気抵抗（MR）・面積抵抗（RA） |
| 構成 | 全自動 A301・半自動／手動 M300 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ナプソンRT-3000／RG-2000（RG-3000） | KLAFilmetrics® R54 | KLACAPRES A301 microRSP® | KLACAPRES CIPTech® | Kokusai Electric（国際電気）VR300DH3 |
|---|---|---|---|---|---|
| 測定方式 | 4探針法（接触・セミオート） | 4探針法（接触）／渦電流（非接触） | — | — | 4探針法（接触・全自動） |
| 対応ウェハ径 | ～ 8 インチ（RG-3000 は ～ 12 インチ） | 300 mm まで | 300 mm（200mm 製品もあり） | — | — |
| 主要用途 | Si・ポリ Si・SiC・新素材の抵抗率マップ | 半導体・化合物半導体の金属膜管理 | — | — | シリコンウェーハなど導電性試料の抵抗率・シート抵抗 |
| 測定範囲 | シート抵抗 1 mΩ/sq ～ 10 MΩ/sq（RT-3000(S)） | シート抵抗・金属膜厚・シートコンダクタンス | — | — | — |
| 方式 | — | — | マイクロ 4 探針（電極幅 500nm まで） | 面内電流トンネリング（CIPTech・IBM からライセンス） | — |
| 測定項目 | — | — | シート抵抗・ホール移動度・活性キャリア密度 | 磁気抵抗（MR）・面積抵抗（RA） | — |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| 構成 | — | — | — | 全自動 A301・半自動／手動 M300 | — |
|---|---|---|---|---|---|
| 関連機種 | — | — | — | — | VR300DSE-2P（全自動）／VR300DEC・VR250（マニュアル） |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •MRAM の開発・工程管理
- •磁気記録ヘッド・磁気センサー
掲載カテゴリ
CAPRES CIPTechは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
シート抵抗測定装置のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP（ウェハ検査装置）Teron™ 6xx シリーズ（マスク検査装置）Puma™ 9980（欠陥検査装置）Candela® 8520（結晶欠陥検査装置）eSL10™（電子線（EB）検査装置）39xx シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Archer™ 750（オーバーレイ計測装置）SpectraFilm™ F10（膜厚計測装置）Therma-Probe® 680XP（イオン注入量測定装置）SpectraShape™ 12k（光学式寸法測定装置（OCD））Filmetrics® R54（シート抵抗測定装置）Tencor® P-17（段差・表面粗さ測定装置）CIRCL™（マクロ検査装置）Therma-Probe® 780（イオン注入量測定装置）ATL100™（オーバーレイ計測装置）Archer™ Power（オーバーレイ計測装置）Axion® T2000（光学式寸法測定装置（OCD））Aleris® 9350（膜厚計測装置）PWG5™（平坦度・ウェハ厚測定装置）CAPRES A301 microRSP®（シート抵抗測定装置）MicroSense® PKMRAM（膜組成分析装置（XRF/FTIR））MicroSense® KerrMapper（膜組成分析装置（XRF/FTIR））29xx シリーズ（2965／2950 EP）（光学式ウェーハ検査装置）C30x シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Voyager® 1035（欠陥検査装置）8935（8 シリーズ）（欠陥検査装置）Micro-SR™（レビューSEM）Castor™（光学式ウェーハ検査装置）eDRX1™（レビューSEM）eDR7380™（レビューSEM）EtchTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））HighTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））CryoTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））WetTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））Smartwafer2™（センサウェハ（T/C付ウェハ））ScannerTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））PlasmaSuite（プロセスモニター（EPD/OES））Surfscan® SC1（ウェハ基板検査装置）Candela® 8720（結晶欠陥検査装置）Candela® 8420（結晶欠陥検査装置）WaferSight™ 2+（ウェハ基板検査装置）Kronos™ 1190XR（ウェハレベルパッケージング）irArcher® 007（ハイブリッドボンディング装置）Zeta™-5xx／6xx シリーズ（段差・表面粗さ測定装置）SPTS Osprey® PECVD（TSV形成装置）SPTS Sigma® PVD（PVD装置）SPTS Delta™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））SPTS Omega® Rapier™（MEMS）SPTS Mosaic™ プラズマダイシング（ダイシングソー）Primaxx® Monarch 300（MEMS）Xactix® X4（MEMS）MVD300®（MEMS）ICOS™ F260（最終テスト装置）ICOS™ T3／T7（最終テスト装置）Quali-Line® Prima® 2（薬液供給システム）QualiSurf®（薬液供給システム）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07