Zeta-5xx／6xx シリーズとは
Zeta-5xx シリーズは、KLA の全自動の 300mm ウェーハ計測用の光学式プロファイラーです。先端ウェーハレベルパッケージの工程管理に重要な、バンプの高さ、RDL の CD、UBM の段差、膜厚、ウェーハの反りなどを測ります。
マルチモードの光学系で多くの種類の計測を 1 台で行えるため、時間とコストを減らせます。高解像度の 3D 画像と解析で、歩留まり改善のための工程フィードバックに必要なデータを提供します。
パネルベースのウェーハレベルパッケージ向けには、パネルの自動ハンドリングを備えた Zeta-6xx シリーズがあり、5xx と同じ計測ができます。
主な特長
- •マルチモード光学系
- •高解像度の 3D 画像
- •パネル対応の 6xx
主な仕様
| 方式 | マルチモード光学プロファイラー（3D 画像） |
|---|---|
| 対象 | 300mm ウェーハ（5xx）・パネル（6xx） |
| 測定項目 | バンプ高さ・RDL CD・UBM 段差・膜厚・反り |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLATencor® P-17 | KLAZeta™-5xx／6xx シリーズ | ブルカー（Bruker）Dektak Pro | パークシステムズ（Park Systems）Park NX-Wafer | レーザーテックBIM300（ウェハ全自動測定装置） |
|---|---|---|---|---|---|
| 測定項目 | 段差・表面粗さ・うねり・反り・薄膜応力 | バンプ高さ・RDL CD・UBM 段差・膜厚・反り | 膜厚段差・応力・表面粗さ・形状（再現性 4 Å 未満） | 表面粗さ・CMP プロファイル・ベアウェーハ欠陥レビュー | — |
| 測定方式 | 触針式（UltraLite センサ） | — | 触針式 | 原子間力顕微鏡（AFM・自動） | — |
| 測定範囲 | 200 mm スキャンステージ | — | 最大 200 mm の全面アクセス | 200 ～ 300 mm ウェーハ（EFEM 搬送） | — |
| 主要用途 | Si・SiC・GaAs・サファイアウェーハの段差測定 | — | 研究開発・工程開発・品質管理 | ウェーハ工場の検査・解析 | — |
| 方式 | — | マルチモード光学プロファイラー（3D 画像） | — | — | コンフォーカル光学系（可視〜NIR） |
1機種だけが掲載している項目（3件）
| 対象 | — | 300mm ウェーハ（5xx）・パネル（6xx） | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|
| サンプル | — | — | — | — | 2〜12 インチウェーハ・500〜600mm パネル |
| 機能 | — | — | — | — | SECS/GEM 対応のフルオート測定 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •バンプ・RDL・UBM の計測
- •パネルレベルパッケージ
掲載カテゴリ
Zeta-5xx／6xx シリーズは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
段差・表面粗さ測定装置のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP（ウェハ検査装置）Teron™ 6xx シリーズ（マスク検査装置）Puma™ 9980（欠陥検査装置）Candela® 8520（結晶欠陥検査装置）eSL10™（電子線（EB）検査装置）39xx シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Archer™ 750（オーバーレイ計測装置）SpectraFilm™ F10（膜厚計測装置）Therma-Probe® 680XP（イオン注入量測定装置）SpectraShape™ 12k（光学式寸法測定装置（OCD））Filmetrics® R54（シート抵抗測定装置）Tencor® P-17（段差・表面粗さ測定装置）CIRCL™（マクロ検査装置）Therma-Probe® 780（イオン注入量測定装置）ATL100™（オーバーレイ計測装置）Archer™ Power（オーバーレイ計測装置）Axion® T2000（光学式寸法測定装置（OCD））Aleris® 9350（膜厚計測装置）PWG5™（平坦度・ウェハ厚測定装置）CAPRES A301 microRSP®（シート抵抗測定装置）CAPRES CIPTech®（シート抵抗測定装置）MicroSense® PKMRAM（膜組成分析装置（XRF/FTIR））MicroSense® KerrMapper（膜組成分析装置（XRF/FTIR））29xx シリーズ（2965／2950 EP）（光学式ウェーハ検査装置）C30x シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Voyager® 1035（欠陥検査装置）8935（8 シリーズ）（欠陥検査装置）Micro-SR™（レビューSEM）Castor™（光学式ウェーハ検査装置）eDRX1™（レビューSEM）eDR7380™（レビューSEM）EtchTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））HighTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））CryoTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））WetTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））Smartwafer2™（センサウェハ（T/C付ウェハ））ScannerTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））PlasmaSuite（プロセスモニター（EPD/OES））Surfscan® SC1（ウェハ基板検査装置）Candela® 8720（結晶欠陥検査装置）Candela® 8420（結晶欠陥検査装置）WaferSight™ 2+（ウェハ基板検査装置）Kronos™ 1190XR（ウェハレベルパッケージング）irArcher® 007（ハイブリッドボンディング装置）SPTS Osprey® PECVD（TSV形成装置）SPTS Sigma® PVD（PVD装置）SPTS Delta™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））SPTS Omega® Rapier™（MEMS）SPTS Mosaic™ プラズマダイシング（ダイシングソー）Primaxx® Monarch 300（MEMS）Xactix® X4（MEMS）MVD300®（MEMS）ICOS™ F260（最終テスト装置）ICOS™ T3／T7（最終テスト装置）Quali-Line® Prima® 2（薬液供給システム）QualiSurf®（薬液供給システム）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07