MicroSense PKMRAMとは
MicroSense PKMRAM は、KLA の 300mm 対応の非接触磁気特性計測装置です。極磁気光学カー効果（MOKE）を使い、垂直 MRAM の開発と製造に使う多層膜ウェーハの磁気特性を評価します。
非接触のフルウェーハ計測で、最大 300mm のウェーハ全面の磁気特性のマップを作ります。手動ロードと全自動の構成があり、研究開発にも生産にも使えます。
MicroSense 独自の直接磁場制御技術で、高い磁場と低磁場での分解能を両立し、自由層と固定層の特性を 1 台で評価できます。
主な特長
- •極カー効果による非接触計測
- •ウェーハ全面の磁気特性マップ
- •自由層・固定層を 1 台で評価
主な仕様
| 方式 | 極磁気光学カー効果（MOKE）・非接触 |
|---|---|
| 対応ウェハ径 | 最大 300 mm |
| 主要用途 | 垂直 MRAM の磁性膜評価 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | リガク（Rigaku）WaferX 310 | ブルカー（Bruker）JVX7300LSI | マルバーン・パナリティカル（Malvern Panalytical）2830 ZT | KLAMicroSense® PKMRAM | KLAMicroSense® KerrMapper | Onto InnovationFAaST® CV/IV | Onto InnovationElement™ S | Onto InnovationElement™ G2 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 主要用途 | BPSG・PSG・金属膜・電極膜の膜厚／組成管理 | エピ積層・SiGe・Si 上 III-V の工程監視 | 膜組成・膜厚・ドーパント濃度の測定 | 垂直 MRAM の磁性膜評価 | 磁性多層膜の評価 | IC 製造中の絶縁膜特性の監視 | — | — |
| 対応ウェハ径 | 150 / 200 / 300 mm | 300 mm | 最大 300 mm | 最大 300 mm | — | — | 100〜200 mm | — |
| 方式 | — | — | — | 極磁気光学カー効果（MOKE）・非接触 | 縦磁気光学カー効果（MOKE）・非接触 | 非接触 CV 計測（ミクロ／マクロのコロナ・ケルビン＋デジタル SPV） | FTIR（透過＋反射） | FTIR（透過＋反射）＋赤外モデリング |
| 特徴 | 最大 20 元素を同時分析・B／P など超軽元素に対応 | 校正不要の第一原理測定（組成・膜厚・歪み・密度・結晶性） | 0.2 nm ～ 10 µm・ホウ素まで・最大 25 枚／時 | — | — | 試料作製・MOS キャパシタ不要 | — | — |
| 分析手法 | WDXRF（波長分散型蛍光 X 線） | HRXRD・XRR・(GI)XRD | WDXRF（波長分散型蛍光 X 線） | — | — | — | — | — |
| 測定 | — | — | — | — | — | — | エピ層の厚さ・自由キャリア濃度（最大 5 層） | 不純物マッピング・エピ厚・BPSG／FSG／SiN 中の H などの組成 |
1機種だけが掲載している項目（2件）
| ラインアップ | — | — | — | — | KerrMapper S300・V300 | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| スポット | — | — | — | — | — | — | — | 2mm の円形スポット |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •垂直 MRAM の磁性膜の開発・最適化
掲載カテゴリ
MicroSense PKMRAMは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
膜組成分析装置（XRF/FTIR）のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP（ウェハ検査装置）Teron™ 6xx シリーズ（マスク検査装置）Puma™ 9980（欠陥検査装置）Candela® 8520（結晶欠陥検査装置）eSL10™（電子線（EB）検査装置）39xx シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Archer™ 750（オーバーレイ計測装置）SpectraFilm™ F10（膜厚計測装置）Therma-Probe® 680XP（イオン注入量測定装置）SpectraShape™ 12k（光学式寸法測定装置（OCD））Filmetrics® R54（シート抵抗測定装置）Tencor® P-17（段差・表面粗さ測定装置）CIRCL™（マクロ検査装置）Therma-Probe® 780（イオン注入量測定装置）ATL100™（オーバーレイ計測装置）Archer™ Power（オーバーレイ計測装置）Axion® T2000（光学式寸法測定装置（OCD））Aleris® 9350（膜厚計測装置）PWG5™（平坦度・ウェハ厚測定装置）CAPRES A301 microRSP®（シート抵抗測定装置）CAPRES CIPTech®（シート抵抗測定装置）MicroSense® KerrMapper（膜組成分析装置（XRF/FTIR））29xx シリーズ（2965／2950 EP）（光学式ウェーハ検査装置）C30x シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Voyager® 1035（欠陥検査装置）8935（8 シリーズ）（欠陥検査装置）Micro-SR™（レビューSEM）Castor™（光学式ウェーハ検査装置）eDRX1™（レビューSEM）eDR7380™（レビューSEM）EtchTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））HighTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））CryoTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））WetTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））Smartwafer2™（センサウェハ（T/C付ウェハ））ScannerTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））PlasmaSuite（プロセスモニター（EPD/OES））Surfscan® SC1（ウェハ基板検査装置）Candela® 8720（結晶欠陥検査装置）Candela® 8420（結晶欠陥検査装置）WaferSight™ 2+（ウェハ基板検査装置）Kronos™ 1190XR（ウェハレベルパッケージング）irArcher® 007（ハイブリッドボンディング装置）Zeta™-5xx／6xx シリーズ（段差・表面粗さ測定装置）SPTS Osprey® PECVD（TSV形成装置）SPTS Sigma® PVD（PVD装置）SPTS Delta™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））SPTS Omega® Rapier™（MEMS）SPTS Mosaic™ プラズマダイシング（ダイシングソー）Primaxx® Monarch 300（MEMS）Xactix® X4（MEMS）MVD300®（MEMS）ICOS™ F260（最終テスト装置）ICOS™ T3／T7（最終テスト装置）Quali-Line® Prima® 2（薬液供給システム）QualiSurf®（薬液供給システム）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07