KLA/光学式ウェーハ検査装置

39xx シリーズ

超解像 DUV の広帯域プラズマ光源を使うパターン付きウェーハ検査装置。5 ~ 7nm 以下の先端ロジック・メモリ向け。

39xx シリーズとは

39xx シリーズは、KLA の広帯域プラズマ光源を使うパターン付きウェーハ欠陥検査装置です。超解像の深紫外(SR-DUV)波長帯、低ノイズセンサー、先進のアルゴリズムで、ロジックとメモリの重要欠陥を見つけます。

最新の 3935 と 3920 EP は 5nm 以下のロジックと最先端メモリのノードに対応し、ウェーハレベルの欠陥発見、歩留まり学習、インラインモニタを支えます。3935 はレシピ設定を拡張する Setup 2.0 や、光学検査機と電子ビームレビュー装置を連携させて低コントラスト層の感度を高める DualSENS を備えます。3920 EP は 3D NAND と DRAM 向けのアルゴリズムと分類機能を持ちます。

機械学習を使う iDO 3.0 などでニューサンス欠陥を抑え、MCATx などの検出アルゴリズムで重要欠陥を捉えます。インラインモニタに使えるスループットと感度を両立し、欠陥発見、ホットスポット発見、EUV プリントチェック、プロセスウィンドウの探索に使われます。

主な特長

  • •広帯域プラズマ光源・SR-DUV 波長帯
  • •3935/3920 EP は 5nm 以下ロジック・最先端メモリに対応
  • •iDO 3.0 によるニューサンス抑制、MCATx 検出アルゴリズム
  • •DualSENS で電子ビームレビューと連携

主な仕様

検査方式明視野(広帯域プラズマ・超解像 DUV)
対象工程前工程(先端ロジック・DRAM・3D NAND)
関連機種29xx シリーズ
主要用途10 nm 未満の欠陥検出・EUV 確率的欠陥の発見

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目KLA39xx シリーズ日立ハイテクDI2800Onto InnovationDragonfly® G3CamtekEagle G5
検査方式明視野(広帯域プラズマ・超解像 DUV)暗視野2D/3D 光学検査(IR 内部欠陥検査)明視野 0.5 µm/暗視野 0.3 µm の表面欠陥検査+3D 計測
対象工程前工程(先端ロジック・DRAM・3D NAND)200 mm 以下のパターン付きウェーハ先端パッケージ・特殊デバイス先端パッケージ(HPC・CIS・SiC)
主要用途10 nm 未満の欠陥検出・EUV 確率的欠陥の発見IoT・車載デバイスの全数検査1 µm に迫る RDL・HBM 向けの検査マルチ RDL・FOWLP・2.5D の検査
特徴—0.1 µm 感度・40 枚/時以上—スループット 2 倍・多層 RDL を 1.4 µm L/S まで検査
1機種だけが掲載している項目(1件)
関連機種29xx シリーズ———

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •欠陥発見・ホットスポット発見・プロセスデバッグ
  • •EUV プリントチェック・ラインモニタ

掲載カテゴリ

39xx シリーズは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

KLA

半導体検査・計測装置の世界的リーダー。AI駆動の欠陥検出と先進データ分析により、歩留まり向上とプロセス開発を加速。

KLA の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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