CIRCLとは
CIRCL は、KLA の欠陥検査・計測・レビューのクラスター装置です。ウェーハの表面・裏面・エッジの全面を 1 台で測定します。
KLA の 8 シリーズ検査装置の技術をモジュールとして搭載でき、複数のモジュールで検査とレビューを並行して行います。先端パッケージ向けには、Kronos の検査技術をモジュールとして載せた CIRCL-AP があります。
主な特長
- •表面・裏面・エッジの全面検査
- •検査・計測・レビューのクラスター構成
- •パッケージ向けの CIRCL-AP
主な仕様
| 検査範囲 | 表面・エッジ・裏面（全面） |
|---|---|
| 構成 | 4 モジュールのクラスター（CIRCL5） |
| 主要用途 | 全面の欠陥監視・エッジプロファイル計測 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLACIRCL™ | Onto InnovationNSX® 330 | Onto InnovationF30™ | Onto InnovationEB40™ | SCREENホールディングスZI-3600（パターン付きウェーハ外観検査装置） | SCREENホールディングスZI-2000（パターン付きウェーハ外観検査装置） | レーザーテックLX シリーズ | レーザーテックCIEL シリーズ | レーザーテックEZ300（ウェハエッジ形状測定装置） | ニコン（Nikon）AMI-5700 | ニコン（Nikon）OPTISTATION-3200 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | — | — | 5 対物レンズのターレット・明視野／暗視野／リング照明／IR レビュー | 明視野・暗視野のエッジ／裏面検査 | ラインセンサによる全面検査 | — | 多波長・全面高速撮像 | — | コンフォーカル光学系 | — | — |
| 構成 | 4 モジュールのクラスター（CIRCL5） | マクロ検査＋2D／3D 計測（オプション） | — | EB40（一体）・E40（エッジ）・B40（裏面） | — | — | 高分解能モデル・高スループットモデル | — | — | — | — |
| 主要用途 | 全面の欠陥監視・エッジプロファイル計測 | 先端パッケージのマイクロバンプ・RDL・TSV 検査 | — | — | — | — | — | — | ウェーハ外周部の歩留まり管理 | — | — |
| 検査範囲 | 表面・エッジ・裏面（全面） | 表面（100 ～ 330 mm ウェーハ） | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応ウェハ径 | — | — | 100〜300 mm | — | — | 76〜200 mm | — | — | — | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | — | — | — | 微小欠陥の特定・3D 測定 | 凹凸判定を含む自動欠陥分類・高解像度 3D 測定 | — | — |
1機種だけが掲載している項目（15件）
| 連携 | — | — | エッジ・裏面モジュール EB40 | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 範囲 | — | — | — | ベベル全体と裏面（Zone 1〜5） | — | — | — | — | — | — | — |
| スループット | — | — | — | — | 従来機（ZI-3500）比約 2 倍 | — | — | — | — | — | — |
| オプション | — | — | — | — | CD 測定・オーバーレイ測定 | — | — | — | — | — | — |
| 検査方式 | — | — | — | — | — | 比較検査（Die to Die・Cell to Cell） | — | — | — | — | — |
| 光学分解能 | — | — | — | — | — | 1.5µm・4µm | — | — | — | — | — |
| 検査対象 | — | — | — | — | — | — | 膜厚・エッチング量・CD のばらつき | — | — | — | — |
| 対象 | — | — | — | — | — | — | — | ウェーハエッジ・ベベル | — | — | — |
| モード | — | — | — | — | — | — | — | 高スループットモードを搭載 | — | — | — |
| 適用ウェハ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | SEMI 準拠 300mm ノッチウェハ | — |
| 検査スループット | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 毎時 180 枚以上（標準倍率時） | — |
| 計測（オプション） | — | — | — | — | — | — | — | — | — | CD・膜厚・フォーカス | — |
| ラインアップ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | OPTISTATION-3200（前工程）／3100／3000（後工程） |
| ウェハサイズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 300mm・200mm（3100／3000 は兼用も可） |
| 顕微鏡 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 6 本の対物レンズ・明視野／暗視野 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ウェーハ全面の欠陥監視
- •エッジプロファイル計測
- •出荷前品質管理
掲載カテゴリ
CIRCLは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
マクロ検査装置のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP（ウェハ検査装置）Teron™ 6xx シリーズ（マスク検査装置）Puma™ 9980（欠陥検査装置）Candela® 8520（結晶欠陥検査装置）eSL10™（電子線（EB）検査装置）39xx シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Archer™ 750（オーバーレイ計測装置）SpectraFilm™ F10（膜厚計測装置）Therma-Probe® 680XP（イオン注入量測定装置）SpectraShape™ 12k（光学式寸法測定装置（OCD））Filmetrics® R54（シート抵抗測定装置）Tencor® P-17（段差・表面粗さ測定装置）Therma-Probe® 780（イオン注入量測定装置）ATL100™（オーバーレイ計測装置）Archer™ Power（オーバーレイ計測装置）Axion® T2000（光学式寸法測定装置（OCD））Aleris® 9350（膜厚計測装置）PWG5™（平坦度・ウェハ厚測定装置）CAPRES A301 microRSP®（シート抵抗測定装置）CAPRES CIPTech®（シート抵抗測定装置）MicroSense® PKMRAM（膜組成分析装置（XRF/FTIR））MicroSense® KerrMapper（膜組成分析装置（XRF/FTIR））29xx シリーズ（2965／2950 EP）（光学式ウェーハ検査装置）C30x シリーズ（光学式ウェーハ検査装置）Voyager® 1035（欠陥検査装置）8935（8 シリーズ）（欠陥検査装置）Micro-SR™（レビューSEM）Castor™（光学式ウェーハ検査装置）eDRX1™（レビューSEM）eDR7380™（レビューSEM）EtchTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））HighTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））CryoTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））WetTemp™ シリーズ（センサウェハ（T/C付ウェハ））Smartwafer2™（センサウェハ（T/C付ウェハ））ScannerTemp™（センサウェハ（T/C付ウェハ））PlasmaSuite（プロセスモニター（EPD/OES））Surfscan® SC1（ウェハ基板検査装置）Candela® 8720（結晶欠陥検査装置）Candela® 8420（結晶欠陥検査装置）WaferSight™ 2+（ウェハ基板検査装置）Kronos™ 1190XR（ウェハレベルパッケージング）irArcher® 007（ハイブリッドボンディング装置）Zeta™-5xx／6xx シリーズ（段差・表面粗さ測定装置）SPTS Osprey® PECVD（TSV形成装置）SPTS Sigma® PVD（PVD装置）SPTS Delta™ PECVD（PECVD（プラズマCVD））SPTS Omega® Rapier™（MEMS）SPTS Mosaic™ プラズマダイシング（ダイシングソー）Primaxx® Monarch 300（MEMS）Xactix® X4（MEMS）MVD300®（MEMS）ICOS™ F260（最終テスト装置）ICOS™ T3／T7（最終テスト装置）Quali-Line® Prima® 2（薬液供給システム）QualiSurf®（薬液供給システム）
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-07