eDR7380とは
eDR7380 は、KLA の電子ビーム(e-beam)によるウェーハ欠陥のレビュー・分類装置です。ワイドバンドギャップ半導体のウェーハとチップの製造を支えます。
欠陥の高解像度の画像を取り、機械学習による自動欠陥分類で正確な欠陥パレートを作ります。開発では欠陥の発生源の特定を、生産では異常の検出を速めます。
SiC、GaN、ガラス、サファイア、POI(圧電体オンインシュレータ)などの基板と、パワー、LED、フォトニクス、RF、MEMS などのデバイスに対応します。150・200・300mm、厚さ 180〜1,500µm のウェーハで、幅広い大きさと種類の欠陥をレビュー・分類し、EDX による組成分析にも対応します。
主な特長
- •機械学習による自動欠陥分類
- •ワイドバンドギャップ基板に対応
- •厚さ 180〜1,500µm に対応
- •EDX 組成分析
主な仕様
| 方式 | 電子ビーム欠陥レビュー・分類(機械学習 ADC) |
|---|---|
| 対応ウェハ | 150/200/300 mm・厚さ 180〜1,500µm |
| 対応基板 | SiC・GaN・ガラス・サファイア・POI など |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | 日立ハイテクCR7300 | 日立ハイテクCT1000(欠陥形状評価 SEM) | Applied MaterialsSEMVision™ H20 | Applied MaterialsSEMVision™ G10 Defect Analysis | Applied MaterialsSEMVision™ G7 Defect Analysis | Applied MaterialsSEMVision™ G7AP Defect Analysis | Applied MaterialsSEMVision® G9 Defect Analysis | KLAMicro-SR™ | KLAeDRX1™ | KLAeDR7380™ |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 方式 | — | — | — | 電子ビーム欠陥レビュー(冷陰極電界放出) | 電子ビーム欠陥レビュー(e-lluminator 技術) | 電子ビーム欠陥レビュー・特性評価 | 電子ビーム自動欠陥レビュー | 光学式欠陥レビュー・計測 | 電子ビーム欠陥レビュー・分類 | 電子ビーム欠陥レビュー・分類(機械学習 ADC) |
| 特徴 | VT-Scan(電気特性可視化)・AI 画像処理 | — | サブナノメートル分解能・従来比最大 3 倍の高速分類 | — | — | 非標準ウェーハ・基板の専用ハンドリング | Elluminator BSE 透過イメージング・電子ビームチルト・深い焦点深度 | — | インレンズ検出器・Simul-6 技術 | — |
| 対象 | — | — | — | 表面の微小欠陥・埋もれ欠陥 | 車載・IoT・RF・フォトニクス・パワー・先端パッケージ | WLP・D2W/W2W 接合・ハイブリッド接合・TCB・HBM | — | — | — | — |
| 電子源 | 新設計電子光学系(高速電子線スキャン) | — | 冷陰極電界放出(CFE・第2世代) | — | — | — | — | — | — | — |
| 主要用途 | 先端デバイスの欠陥レビュー・分類 | — | 2nm ロジック・DRAM・3D NAND の埋もれ欠陥解析 | — | — | — | — | — | — | — |
| 分解能 | — | 7nm(1kV) | — | サブナノメートル | — | — | — | — | — | — |
| 対応ウェハ径 | — | 100/150/200 mm | — | — | — | — | — | 150/200 mm・200/300 mm・300 mm | — | — |
| 機能 | — | — | — | — | 自動欠陥レビュー(ADR)・自動欠陥分類(ADC) | — | ディープラーニングによる分類 | — | — | — |
1機種だけが掲載している項目(5件)
| 試料最大傾斜角 | — | 55° | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 計測 | — | — | — | — | — | — | — | TSV・バンプ・RDL の X・Y・高さ | — | — |
| 連携 | — | — | — | — | — | — | — | — | DualSENS(39xx/29xx)・OptiSens(Surfscan) | — |
| 対応ウェハ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | 150/200/300 mm・厚さ 180〜1,500µm |
| 対応基板 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | SiC・GaN・ガラス・サファイア・POI など |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •SiC・GaN パワーデバイスの欠陥レビュー
- •RF・LED・MEMS の欠陥分類
掲載カテゴリ
eDR7380は次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
レビューSEMのほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP(ウェハ検査装置)Teron™ 6xx シリーズ(マスク検査装置)Puma™ 9980(欠陥検査装置)Candela® 8520(結晶欠陥検査装置)eSL10™(電子線(EB)検査装置)39xx シリーズ(光学式ウェーハ検査装置)Archer™ 750(オーバーレイ計測装置)SpectraFilm™ F10(膜厚計測装置)Therma-Probe® 680XP(イオン注入量測定装置)SpectraShape™ 12k(光学式寸法測定装置(OCD))Filmetrics® R54(シート抵抗測定装置)Tencor® P-17(段差・表面粗さ測定装置)CIRCL™(マクロ検査装置)Therma-Probe® 780(イオン注入量測定装置)ATL100™(オーバーレイ計測装置)Archer™ Power(オーバーレイ計測装置)Axion® T2000(光学式寸法測定装置(OCD))Aleris® 9350(膜厚計測装置)PWG5™(平坦度・ウェハ厚測定装置)CAPRES A301 microRSP®(シート抵抗測定装置)CAPRES CIPTech®(シート抵抗測定装置)MicroSense® PKMRAM(膜組成分析装置(XRF/FTIR))MicroSense® KerrMapper(膜組成分析装置(XRF/FTIR))29xx シリーズ(2965/2950 EP)(光学式ウェーハ検査装置)C30x シリーズ(光学式ウェーハ検査装置)Voyager® 1035(欠陥検査装置)8935(8 シリーズ)(欠陥検査装置)Micro-SR™(レビューSEM)Castor™(光学式ウェーハ検査装置)eDRX1™(レビューSEM)EtchTemp™ シリーズ(センサウェハ(T/C付ウェハ))HighTemp™ シリーズ(センサウェハ(T/C付ウェハ))CryoTemp™(センサウェハ(T/C付ウェハ))WetTemp™ シリーズ(センサウェハ(T/C付ウェハ))Smartwafer2™(センサウェハ(T/C付ウェハ))ScannerTemp™(センサウェハ(T/C付ウェハ))PlasmaSuite(プロセスモニター(EPD/OES))Surfscan® SC1(ウェハ基板検査装置)Candela® 8720(結晶欠陥検査装置)Candela® 8420(結晶欠陥検査装置)WaferSight™ 2+(ウェハ基板検査装置)Kronos™ 1190XR(ウェハレベルパッケージング)irArcher® 007(ハイブリッドボンディング装置)Zeta™-5xx/6xx シリーズ(段差・表面粗さ測定装置)SPTS Osprey® PECVD(TSV形成装置)SPTS Sigma® PVD(PVD装置)SPTS Delta™ PECVD(PECVD(プラズマCVD))SPTS Omega® Rapier™(MEMS)SPTS Mosaic™ プラズマダイシング(ダイシングソー)Primaxx® Monarch 300(MEMS)Xactix® X4(MEMS)MVD300®(MEMS)ICOS™ F260(最終テスト装置)ICOS™ T3/T7(最終テスト装置)Quali-Line® Prima® 2(薬液供給システム)QualiSurf®(薬液供給システム)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07