Castorとは
Castor は、KLA のパターン付きウェーハ検査・計測装置です。シリコン上の OLED(OLEDoS)の製造で歩留まりを左右する課題に向けた一体型のソリューションです。
欠陥検査、レビュー、3D 計測を 1 回の処理で行います。アノード層の成膜から薄膜封止、カバーガラスまで、高感度の欠陥検査と高度な分類で製造工程全体の品質管理を支えます。
薄膜封止(TFE)の工程で埋もれた欠陥の高さを非破壊で速く測り、工程の問題をすばやく見つけて解決します。VR や MR などの目の近くで使うディスプレイ向けの、超高解像度のマイクロディスプレイの歩留まり向上に使われます。
主な特長
- •検査・レビュー・3D 計測を 1 回で
- •埋もれ欠陥の高さ計測
- •OLEDoS 専用
主な仕様
| 方式 | パターン付きウェーハ検査+レビュー+3D 計測 |
|---|---|
| 対象 | OLED on Silicon(OLEDoS)マイクロディスプレイ |
| 特徴 | 薄膜封止工程での埋もれ欠陥の高さ計測 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | KLA39xx シリーズ | KLA29xx シリーズ(2965/2950 EP) | KLAC30x シリーズ | KLACastor™ | 日立ハイテクDI2800 | Onto InnovationDragonfly® G3 | CamtekEagle G5 | Applied MaterialsComPLUS™ 5P Optical Inspection | Applied MaterialsEnlight™ 3 Optical Inspection | Applied MaterialsHawkEye™ Optical Inspection | Applied MaterialsVera® Optical Inspection |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 検査方式 | 明視野(広帯域プラズマ・超解像 DUV) | — | — | — | 暗視野 | 2D/3D 光学検査(IR 内部欠陥検査) | 明視野 0.5 µm/暗視野 0.3 µm の表面欠陥検査+3D 計測 | 暗視野・グレー視野・明視野の同時検出 | 明視野+グレー視野の同時検出 | 暗視野(DUV レーザー) | 明視野+グレー視野(DUV レーザー) |
| 主要用途 | 10 nm 未満の欠陥検出・EUV 確率的欠陥の発見 | — | — | — | IoT・車載デバイスの全数検査 | 1 µm に迫る RDL・HBM 向けの検査 | マルチ RDL・FOWLP・2.5D の検査 | ICAPS・成熟ロジックの欠陥検査 | 先端ロジック・メモリの工程管理 | — | — |
| 特徴 | — | Super・Pixel モード・高度な検出アルゴリズム | NanoPoint で信頼性リスクの高いパターンに集中 | 薄膜封止工程での埋もれ欠陥の高さ計測 | 0.1 µm 感度・40 枚/時以上 | — | スループット 2 倍・多層 RDL を 1.4 µm L/S まで検査 | — | 市場最高の開口数・3D 偏光制御・AI アルゴリズム | — | — |
| 対象工程 | 前工程(先端ロジック・DRAM・3D NAND) | — | — | — | 200 mm 以下のパターン付きウェーハ | 先端パッケージ・特殊デバイス | 先端パッケージ(HPC・CIS・SiC) | — | — | — | — |
| 方式 | — | 広帯域プラズマ照明の光学式欠陥検査 | 波長可変の広帯域プラズマ照明の光学式検査 | パターン付きウェーハ検査+レビュー+3D 計測 | — | — | — | — | — | — | — |
| 対象 | — | — | — | OLED on Silicon(OLEDoS)マイクロディスプレイ | — | — | — | — | — | 2nm までのロジック・メモリ、ICAPS | 成熟ノードの ICAPS デバイス |
1機種だけが掲載している項目(6件)
| 関連機種 | 29xx シリーズ | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| ラインアップ | — | 2965・2950 EP | — | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対応ウェハ径 | — | — | 200/300 mm | — | — | — | — | — | — | — | — |
| 対象ノード | — | — | — | — | — | — | — | 90nm 未満 | — | — | — |
| 検出対象 | — | — | — | — | — | — | — | — | — | パーティクル・パターン欠陥・スクラッチ・突起 | — |
| ベース | — | — | — | — | — | — | — | — | — | — | Enlight プラットフォーム |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •OLEDoS マイクロディスプレイの工程管理
掲載カテゴリ
Castorは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
光学式ウェーハ検査装置のほかの製品
KLAのほかの製品
Surfscan® SP7XP(ウェハ検査装置)Teron™ 6xx シリーズ(マスク検査装置)Puma™ 9980(欠陥検査装置)Candela® 8520(結晶欠陥検査装置)eSL10™(電子線(EB)検査装置)39xx シリーズ(光学式ウェーハ検査装置)Archer™ 750(オーバーレイ計測装置)SpectraFilm™ F10(膜厚計測装置)Therma-Probe® 680XP(イオン注入量測定装置)SpectraShape™ 12k(光学式寸法測定装置(OCD))Filmetrics® R54(シート抵抗測定装置)Tencor® P-17(段差・表面粗さ測定装置)CIRCL™(マクロ検査装置)Therma-Probe® 780(イオン注入量測定装置)ATL100™(オーバーレイ計測装置)Archer™ Power(オーバーレイ計測装置)Axion® T2000(光学式寸法測定装置(OCD))Aleris® 9350(膜厚計測装置)PWG5™(平坦度・ウェハ厚測定装置)CAPRES A301 microRSP®(シート抵抗測定装置)CAPRES CIPTech®(シート抵抗測定装置)MicroSense® PKMRAM(膜組成分析装置(XRF/FTIR))MicroSense® KerrMapper(膜組成分析装置(XRF/FTIR))29xx シリーズ(2965/2950 EP)(光学式ウェーハ検査装置)C30x シリーズ(光学式ウェーハ検査装置)Voyager® 1035(欠陥検査装置)8935(8 シリーズ)(欠陥検査装置)Micro-SR™(レビューSEM)eDRX1™(レビューSEM)eDR7380™(レビューSEM)EtchTemp™ シリーズ(センサウェハ(T/C付ウェハ))HighTemp™ シリーズ(センサウェハ(T/C付ウェハ))CryoTemp™(センサウェハ(T/C付ウェハ))WetTemp™ シリーズ(センサウェハ(T/C付ウェハ))Smartwafer2™(センサウェハ(T/C付ウェハ))ScannerTemp™(センサウェハ(T/C付ウェハ))PlasmaSuite(プロセスモニター(EPD/OES))Surfscan® SC1(ウェハ基板検査装置)Candela® 8720(結晶欠陥検査装置)Candela® 8420(結晶欠陥検査装置)WaferSight™ 2+(ウェハ基板検査装置)Kronos™ 1190XR(ウェハレベルパッケージング)irArcher® 007(ハイブリッドボンディング装置)Zeta™-5xx/6xx シリーズ(段差・表面粗さ測定装置)SPTS Osprey® PECVD(TSV形成装置)SPTS Sigma® PVD(PVD装置)SPTS Delta™ PECVD(PECVD(プラズマCVD))SPTS Omega® Rapier™(MEMS)SPTS Mosaic™ プラズマダイシング(ダイシングソー)Primaxx® Monarch 300(MEMS)Xactix® X4(MEMS)MVD300®(MEMS)ICOS™ F260(最終テスト装置)ICOS™ T3/T7(最終テスト装置)Quali-Line® Prima® 2(薬液供給システム)QualiSurf®(薬液供給システム)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07