iSystem Controllerとは
iSystem Controller は、Applied Materials の小型コントローラです。製造装置の動きを監視しながらデータを集め、資源消費や温室効果ガス排出のレポートを作ります。
1 台で最大 4 台の装置に対応し、Applied 製だけでなく他社製の 200mm・300mm 装置にも取り付けられます。装置とサブファブ(ポンプや除害装置)を同期させ、装置が待機しているあいだはサブファブ機器を省エネモードにします。
SEMI E167・E175 のスリープモード規格に対応し、待機から処理状態へは 2 秒未満で戻ります。エネルギー関連のコストを約 20% 減らせ、3,000 以上の接続実績があります。装置の改造やプロセスの再認定は必要ありません。
主な特長
- •1 台で最大 4 装置
- •他社装置にも対応
- •待機時の省エネ(SEMI E167/E175)
- •温室効果ガスの継続レポート
主な仕様
| 接続数 | 1 台で最大 4 装置 |
|---|---|
| 対応装置 | Applied 製・他社製の 200mm/300mm 装置 |
| 効果 | エネルギー関連コストを約 20% 削減・3,000 接続以上の実績 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •ファブとサブファブの省エネ
- •環境データの収集・報告
掲載カテゴリ
iSystem Controllerは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Applied Materials
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。
装置管理システム(EES)のほかの製品
Applied Materialsのほかの製品
Reflexion LK Prime CMP(酸化膜CMP装置)Reflexion LK CMP(金属CMP装置)Vantage Vulcan RTP(RTP(急速熱処理)装置)VIISta Trident(高電流イオン注入装置)VIISta 900XP(中電流イオン注入装置)Producer Celera PECVD(PECVD(プラズマCVD))Producer Precision APF PECVD(PECVD(プラズマCVD))Kinex™ Die-to-Wafer Hybrid Bonding System(ハイブリッドボンディング装置)Centris® Sym3® Y Etch(ドライエッチング装置)Sym3™ Z Magnum™ Etch(シリコンエッチャー)Centura® Etch(ポリシリコンエッチャー)Producer® Selectra® Etch(酸化膜エッチャー)Producer® Selectra® Mo Etch(金属エッチャー)Olympia® ALD(ALD装置)Producer® XP Precision® CVD(CVD装置)Endura® PVD(PVD装置)Centura™ Prime™ Epi(エピタキシャル成長装置)Raider® ECD(めっき装置(電解銅めっき))Centura® Tetra™ Z Photomask Etch(マスクエッチング装置)Centura® Tetra™ EUV Advanced Reticle Etch(マスクエッチング装置)Vantage® Astra™ DSA(レーザーアニール装置)VIISta® PLAD(プラズマドーピング装置)SEMVision™ H20(レビューSEM)VeritySEM® 20 CD Metrology(CD-SEM)Centura® Silvia™ Etch(TSV形成装置)VIISta® 3000XP(高エネルギーイオン注入)(CMOSイメージセンサー製造装置)VIISta® 900 3D(ホットイオン注入)(SiCパワー半導体製造装置)Mirra® Durum™ CMP(SiCパワー半導体製造装置)SmartFactory MES(生産管理システム(MES))Aera™ 6 Mask Inspection(マスク検査装置)Aeris®-G Plasma Abatement System(排ガス処理装置(アバトメント))Aeris®-S(排ガス処理装置(アバトメント))Aeris®-Si(排ガス処理装置(アバトメント))Alta® 4700DP Mask Writer(マスク描画装置(EB描画))Producer™ Avila™ 2 PECVD(TSV形成装置)Producer Precision™ Selective Nitride PECVD(PECVD(プラズマCVD))Producer® XP Precision® Pioneer® CVD(CVD装置)Sigmameltec CTS Mask Coat Series(マスクコータ/デベロッパ)Sigmameltec MRC Mask Clean Series(マスク洗浄・乾燥装置)Sigmameltec SFB Mask Bake Series(マスクコータ/デベロッパ)Sigmameltec SFD Mask Develop Series(マスクコータ/デベロッパ)Axcela™ PVD(PVD装置)Centris™ Spectral™ Mo ALD(ALD装置)Centris™ Spectral™ SiN ALD(ALD装置)Centura® DPN HD(RTP(急速熱処理)装置)Centura® DXZ CVD(CVD装置)Centura® Epi 200mm(エピタキシャル成長装置)Centura™ Sculpta™ Pattern-Shaping System(ドライエッチング装置)Centura® Ultima HDP CVD®(CVD装置)Centura™ Xtera™ Epi(エピタキシャル成長装置)Centura™ iSprint™ SSW ALD/CVD(CVD装置)Charger® UBM PVD(ウェハレベルパッケージング)ComPLUS™ 5P Optical Inspection(光学式ウェーハ検査装置)Endura® ALPS® PVD(PVD装置)Endura® Amber™ PVD(PVD装置)Endura® Avenir® RF PVD(PVD装置)Endura® Cirrus™ HT Co PVD(PVD装置)Endura® Cirrus™ HTX PVD(PVD装置)Endura® Clover® MRAM PVD(PVD装置)Endura® CuBS RF XT PVD(PVD装置)Endura™ CuBS Volta™ Ruthenium CVD(CVD装置)Endura® iLB™ PVD/ALD(PVD装置)Endura® Impulse™ PCRAM PVD(PVD装置)Endura® Ioniq™ W PVD(PVD装置)Endura™ Trillium™ ALD(ALD装置)Endura® Underbump Metallization PVD(ウェハレベルパッケージング)Endura® Ventura® PVD(TSV形成装置)Endura® Versa™ XLR2 W PVD(PVD装置)Endura® Volta® Cobalt CVD(CVD装置)Endura® Volta® Selective W CVD(CVD装置)Endura® Volta® W CVD(CVD装置)Enlight™ 3 Optical Inspection(光学式ウェーハ検査装置)HawkEye™ Optical Inspection(光学式ウェーハ検査装置)Mirra® CMP 200mm(酸化膜CMP装置)Nokota VMax™ 2 ECD(めっき装置(電解銅めっき))Opta™ CMP(金属CMP装置)PROVision™ 10 eBeam Metrology(CD-SEM)PROVision™ 4E eBeam Metrology(CD-SEM)Pika™ PVD(PVD装置)PrimeVision® 10 eBeam Inspection(電子線(EB)検査装置)Producer® Pyra® Anneal(アニール炉)Producer® Avila™ PECVD(TSV形成装置)Producer® BLOk™ PECVD(PECVD(プラズマCVD))Producer™ Black Diamond™ PECVD(PECVD(プラズマCVD))Producer® CVD(CVD装置)Producer® DARC® PECVD(PECVD(プラズマCVD))Producer® Etch(ドライエッチング装置)Producer® Eterna® FCVD™(CVD装置)Producer® HARP®(CVD装置)Producer® InVia® CVD(TSV形成装置)Producer® Onyx®(PECVD(プラズマCVD))Producer™ Viva™ Radical Treatment(ドライ洗浄装置)Producer® XP Precision® Draco™ CVD(CVD装置)Reveal™ Defect Analysis(故障解析装置)SEMVision™ G10 Defect Analysis(レビューSEM)SEMVision™ G7 Defect Analysis(レビューSEM)SEMVision™ G7AP Defect Analysis(レビューSEM)SEMVision® G9 Defect Analysis(レビューSEM)Topaz™ PVD(ウェハレベルパッケージング)VIISta® HCP(高電流イオン注入装置)Vantage® RadOx™ RTP(RTP(急速熱処理)装置)Vantage® Radiance® Plus RTP(RTP(急速熱処理)装置)Vera® Optical Inspection(光学式ウェーハ検査装置)VeritySEM® 6C CD Metrology(CD-SEM)VeritySEM® 6D CD Metrology(CD-SEM)VeritySEM™ AP CD Metrology(CD-SEM)
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07