Producer Precision APF PECVD
剥離可能なアモルファスカーボン系ハードマスク（APF）を成膜するPECVDシステム。先端DRAM・NAND・ロジックの微細パターニング工程で使われる。
Producer Precision APF PECVDとは
Producer Precision APF PECVD は、剥離可能なアモルファスカーボン系ハードマスク膜（APF）を成膜する Applied Materials の PECVD システムです。APF は業界で初めて商用化された PECVD のアッシャブル アモルファスカーボン膜で、先端 DRAM・NAND・ロジックのほぼすべての量産拠点で使われています。
APF はマルチパターニングを支える膜のひとつで、ArF 露光を物理限界を超えて微細化する際や、高アスペクト比のパターン形成に欠かせません。用途の広がりに伴い、1種類の膜から複数の特化膜のファミリーへと発展しました。
最新の Stensar APF は低応力で欠陥が極めて少なく、2nm ロジックのハードマスク要求に応えます。スピンオン膜より選択比が高いため膜スタックを薄くでき、LER・LWR の低減に寄与します。ほかに透明で高選択比の Saphira、より厚い膜を成膜できる APFe などがあります。
主な特長
- •PECVD による剥離可能なアモルファスカーボン ハードマスク
- •Stensar・Saphira・APFe など用途別の膜ファミリー
- •ハードマスクのエッチ選択比を調整可能
- •低アウトガスで装置のクリーン間隔を延長
主な仕様
| プラットフォーム | Applied Producer |
|---|---|
| 対応膜種 | アモルファスカーボン ハードマスク（APF） |
| 特徴 | 剥離可能なハードマスク膜 |
| 主要用途 | DRAM・NAND・ロジックのパターニング |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsProducer Celera PECVD | Applied MaterialsProducer Precision APF PECVD | Lam ResearchVECTOR®（PECVD） |
|---|---|---|---|
| 主要用途 | 先端ノードの歪みエンジニアリング | DRAM・NAND・ロジックのパターニング | 層間絶縁膜・ハードマスクの成膜 |
| プラットフォーム | Applied Producer | Applied Producer | — |
| 対応膜種 | 高応力シリコン窒化膜（圧縮／引張） | アモルファスカーボン ハードマスク（APF） | — |
1機種だけが掲載している項目（6件）
| 制御項目 | 膜応力のチューニング | — | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | — | 剥離可能なハードマスク膜 | — |
| 構成 | — | — | マルチステーション（300 mm 機は 4 ステーション） |
| 200 mm 機 | — | — | Sequel（6 ステーション） |
| 関連機種 | — | — | VECTOR Strata（3D NAND向け／2014年）（派生機種） |
| 初期リリース | — | — | 2000年 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •SADP／SAQP・EUV のマルチパターニング
- •DRAM キャパシタ・3D NAND などの高アスペクト比エッチング用マスク
- •2nm ロジックのクリティカルなパターニング
掲載カテゴリ
Producer Precision APF PECVDは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。