Applied Materials/ドライ洗浄装置

Producer™ Viva™ Radical Treatment

イオンを含まない純粋なラジカルで、GAA のナノシート表面を Å レベルで滑らかに整える表面処理装置。

Producer Viva Radical Treatmentとは

Producer Viva は、Applied Materials のラジカル処理装置です。AI や HPC 向けの GAA(ゲートオールアラウンド)トランジスタでは、シリコンのチャネル(ナノシート)の表面状態が性能を左右し、数 Å の粗さや不純物でも界面のトラップが増えて、キャリアの移動度とトランジスタの速度が落ちます。

中核は、イオンを含まない純粋なラジカルを作る特許の供給構造です。ラジカルは方向性がないため、奥に埋もれて直接見通せない構造の中でも均一でコンフォーマルな表面処理ができ、イオンプラズマによる構造の損傷もありません。

ラジカルがシリコン原子の表面移動に必要なエネルギーを下げることで、ナノシートの表面を Å レベルで滑らかに整えます。

主な特長

  • •イオンフリーの純ラジカル
  • •見通せない構造でも均一処理
  • •プラズマ損傷なし

主な仕様

方式イオンフリーのラジカル処理(特許)
対象GAA ナノシートのシリコン表面
効果表面粗さ・不純物の低減でキャリア移動度を改善

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目東京エレクトロン(TEL)Certas LEAGA™(ガスケミカルエッチング)東京エレクトロン(TEL)ANTARES™(エアロゾル洗浄装置)Lam ResearchSelective Etch(Argos®/Prevos®/Selis®)Applied MaterialsProducer™ Viva™ Radical TreatmentASMインターナショナルPrevium®(エピ前プリクリーン)ULVAC(アルバック)RISE-300(自然酸化膜除去装置)
方式ガスケミカル(ドライ)エッチング、プラズマレス枚葉式・低温エアロゾル(薬液・水を使わない完全ドライ)等方性の選択エッチング・表面処理イオンフリーのラジカル処理(特許)エピ前のプリクリーン(Intrepid と統合)リモートプラズマ(マイクロ波)・低温のバッチ式ドライエッチング
主要用途シリコンコンタクト前クリーニング・酸化膜除去・選択エッチング微細パターンのパーティクル除去(FEOL〜BEOL)S/D 成膜前プリクリーン・表面除染・SiGe 除去(GAA)・酸化膜リセス———
対応ウェハ径300 mm300 mm————
1機種だけが掲載している項目(8件)
チャンバー構成最大 6 チャンバー(2枚同時処理)—————
シリーズ構成——Argos/Prevos/Selis———
対象———GAA ナノシートのシリコン表面——
効果———表面粗さ・不純物の低減でキャリア移動度を改善——
ラインアップ————Previum V3・NEXT・VP(気相・非プラズマ)—
性能————自然酸化膜を 99.9% 除去(V3)—
均一性—————±5% 未満(バッチ)
処理—————300mm を 50 枚一括

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •GAA ナノシートの表面処理

掲載カテゴリ

Producer Viva Radical Treatmentは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

Applied Materials

世界最大の半導体製造装置サプライヤー。成膜、除去、改質、分析の包括的な製品ポートフォリオで、ウェーハ製造の全工程をサポート。

Applied Materials の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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